脈沖激光沉積裝置價格價格合理 沈陽鵬程公司

脈沖激光沉積的優點

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1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；

3. 工藝參數任意調節，對靶材的種類沒有限制；

4. 發展潛力巨大，具有極大的兼容性；

5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。

脈沖激光沉積簡介

脈沖激光沉積，就是將激光聚焦于靶材上一個較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。脈沖激光沉積的應用領域沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積，以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。 在眾多的薄膜制備方法中，脈沖激光沉積技術的應用較為廣泛，可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜，甚至還用來制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。

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常規沉積條件下的組合合成

脈沖激光沉積系統特點及優勢：

可根據客戶需求定制產品，靈活性高，并提供專業的技術支持；靶臺可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關手續, 交貨期短，性價比高；

沈陽鵬程真空技術有限責任公司擁有先進的技術，我們都以質量為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業務。如果您對脈沖激光沉積感興趣，歡迎點擊左右兩側的在線客服，或撥打咨詢電話。