充電寶LOGO曝光顯影廠承諾守信【利成感光】

非曝光區(qū)的光刻膠由于在曝光時并未發(fā)生化學反應，在顯影時也就不會存在這樣的酸堿中和，因此非曝光區(qū)的光刻膠被保留下來。經過曝光的正膠是逐漸溶解的，中和反應只在光刻膠的表面進行，因此正膠受顯影液的影響相對比較小。進行顯影的方式有很多種，廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個階段：硅片被置于旋轉臺 上，并且在硅片表面上噴灑顯影液；然后硅片將在靜止的狀態(tài)下進行顯影；顯影完成后，需要經過漂洗，之后再烘干。


銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝設備發(fā)展，亦可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工，特別在半導體程上，蝕刻更是不可或缺的技術。感光、顯影 感光（爆光）是將菲林放在已經噴了感光油的產品上面，主要的目的是通過爆光讓菲林上的圖案在產品上形成，感光（爆光）過程中要特別注意夾具一定要放好，菲林不能歪斜，否則產品圖案就會出現(xiàn)歪斜現(xiàn)象，從而產生不良品，而菲林也要定期檢查。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

曝光：經光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板上。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。