真空離子鍍膜設(shè)備按需定制

影響蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜性能的因素

響蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜性能的因素有：被蒸鍍的基膜、蒸鍍方法、蒸鍍工藝條件對(duì)蒸鍍氧化硅薄膜性能的影響等。

①塑料薄膜的類型：蒸鍍的氧化硅膜與塑料薄膜之間的黏合牢度，與塑料基膜種類之間有較大的關(guān)系，PET、PVC等極性較大的薄膜與氧化硅之間的黏合性較佳，而非極性的薄膜與氧化硅之間的黏合力則比較差。

②塑料薄膜表面狀態(tài)：蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜的阻隔性，除了受蒸鍍層的厚度影響之外，更大程度上取決于氧化硅鍍層的均勻性。裂縫、等缺欠，會(huì)導(dǎo)致蒸鍍氧化硅類蒸鍍薄膜的阻隔性明顯下降，缺陷的形成除了蒸鍍層本身的化學(xué)成分與結(jié)構(gòu)之外，所用基膜的表面平滑性也是一個(gè)重要因素，粗糙度越大，越容易造成蒸鍍?nèi)毕荩m量的粗糙度，會(huì)使蒸鍍層和基膜的表面之間形成物理錨接，改善層間黏合力。

③塑料薄膜的表面預(yù)處理狀況：為了得到的蒸鍍薄膜，對(duì)基膜進(jìn)行適度的表面電暈處理是十分必要的。塑料薄膜經(jīng)過表面電暈處理，可在其表面形成氧化層，增大基膜與蒸鍍涂層之間的結(jié)合力。在預(yù)處理設(shè)備一定的情況下，如果預(yù)處理時(shí)間不足，表面改性不充分，基膜與涂層之間的結(jié)合牢度不理想；預(yù)處理時(shí)間過長(zhǎng)，則可能引起基膜較深層次的界面弱化，產(chǎn)生基膜自身的弱界面層，引起整個(gè)材料的結(jié)合力下降。

離子真空鍍膜機(jī)

使用的工藝和不銹鋼離子鍍膜機(jī)使用的工藝是一樣的,但是不銹鋼會(huì)多出一個(gè)偏壓電源,因此也會(huì)有差別。因此都離子真空鍍膜機(jī),鍍膜原理也會(huì)有差別。

手表:的手表會(huì)在表帶或者外殼堵上真金或者玫瑰金等來彰顯尊貴,利用離子鍍膜技術(shù)鍍出的膜層在強(qiáng)度性能上非常,且光澤度極佳。餐具:離子鍍膜機(jī)將鈦合金鍍膜于餐具上,提升了整體的檔次感。而大部分的鈦合金不會(huì)對(duì)人體造成損害,可以說是非常健康和環(huán)保的材料。模具:對(duì)于很多產(chǎn)品的模具來說,本身需求有較高的強(qiáng)度和耐腐蝕性。所以需要離子鍍膜機(jī)在外層鍍膜,使得其硬度、強(qiáng)度、耐磨性和耐腐蝕性能得到一定的增強(qiáng)。燈飾:水晶類的燈飾配合離子鍍膜技術(shù)帶來的絢麗色彩,使得整體的燈光和裝飾效果更加地富麗和優(yōu)雅。且外層鍍膜能使得燈飾性能趨于穩(wěn)定。陶瓷:陶瓷本身具有一定的耐污性和耐腐蝕性性,離子鍍膜機(jī)在外層再次鍍膜的目的在于使得其光澤度和強(qiáng)度能夠進(jìn)一步增加。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因?yàn)锳l膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對(duì)于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會(huì)造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對(duì)于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時(shí)圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)，行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時(shí)均勻轉(zhuǎn)動(dòng)，各個(gè)基片在沉積Al膜時(shí)的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點(diǎn)在坩堝蒸發(fā)源處，各個(gè)基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。