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真空蒸發鍍膜常用的兩種鍍膜方法

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發結晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發過程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。 2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達一定程度噴射出來的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來源為離子，并且微粒飛翔過程中有明顯離子狀態，并使用磁場控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積. 現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點. 直流濺射發展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材等現象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

真空鍍膜設備的處理方法

空鍍膜設備廠家分析真空鍍膜設備的處理方法 加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。 基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗漬等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。 對經過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至較小。因為這些容器優先吸附碳氫化合物。對于高度不穩定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應貯存在真空干燥箱中。

離子鍍膜設備的工作原理及操作方法

離子鍍膜設備的工作原理及操作方法 目前商業上已有很精制的設備安裝在顯微鏡下的載物臺的位置上。濺射鍍膜時，將拋光的試樣安放在式樣頭具上，傾轉到面對電子槍（陰極）的位置，調節濺射室中的氣壓，輝光放電，陰極濺射，反應濺射沉積。一定時間后，中斷濺射，把濺射沉積的試樣表面，轉回到面對物鏡的位置，觀察試樣表面的顏色，來評定沉積膜的厚度，當要求的顏色得到時，鍍膜操作停止。