脈沖激光沉積裝置廠家服務至上【沈陽鵬程】

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。脈沖激光沉積以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，希望對同行業的朋友有所幫助。

另外，PLD 是一種“數字”技術，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）。

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脈沖激光沉積選件介紹

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連續組成擴展(CCS )

常規沉積條件下的組合合成

組合合成是一種基于脈沖激光沉積的、組合材料合成的新型連續組成擴展(CCS) 方法。PLD-CCS 系統能以連續的方式改變材料，沒有必要使用掩模。可以在每一次循環中，以小于一個單分子層的速率，快速連續沉積每一種組份，其結果是基本等同于共沉積法。該法無需在沉積后進行退火促進內部擴散或結晶，對于生長溫度是關鍵參數的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。公司生產、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。