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如何選用合適的拋光膏?

拋光膏有那幾種，如何選用合適的拋光膏?答:在拋光輪旋轉(zhuǎn)的過程中，在拋光輪表面上均勻地涂上一層薄薄的拋光膏，以除去制品表面的輕微不平。拋光膏是把拋光材料(如硅藻土、石英砂、浮石、鐵丹、維也納石灰和氧化鉻等)與一些粘結(jié)劑(如硬脂酸、石蠟等)一起制成油膏的形式使用。拋光膏一般分為白色、紅色、綠色三種，根據(jù)拋光制品的材質(zhì)不同，應(yīng)選用不同的拋光膏。白色拋光膏——是用無水和純度較高的氧化鈣和少量的氧化鎂及一些粘結(jié)劑所組成。適用于拋光較軟的金屬(如鋁、銅及其合金等)，也適用于塑料的拋光。

電鍍需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零

電鍍需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤(rùn)濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過程。因此，這是一個(gè)包括液相傳質(zhì)、電化學(xué)反應(yīng)和電結(jié)晶等步驟的金屬電沉積過程。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法，通過將蒸發(fā)的原子或分子應(yīng)用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業(yè)應(yīng)用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應(yīng)用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物理氣相沉積）和CVD法（化學(xué)氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發(fā)固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過激發(fā)和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

磷化過程中的就是磷化液

磷化過程中的就是磷化液，不同磷化使用的磷化液也會(huì)不相同，將金屬工件放入磷化液中后，就會(huì)相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一種磷酸鐵元素，并且還會(huì)產(chǎn)生氫氧。這種碳酸鐵元素會(huì)慢慢的結(jié)晶，并且沉積在金屬表面，當(dāng)這種結(jié)晶越來越多后，就會(huì)在金屬表面連成一片，形成一層不溶于水牢固的磷化膜。工件放入磷化液中后，需要持續(xù)的晃動(dòng)幾分鐘，主要是為了排出滯留在工件凹槽內(nèi)的空氣和氣泡，磷化的時(shí)間一般會(huì)根據(jù)不同的工件結(jié)構(gòu)，材料以及溫度來決定，通常情況下在30分鐘左右。