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              LED燈反光杯廠家歡迎來電 錦城鍍膜

              發(fā)布時(shí)間:2020-12-31 07:55  

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              物理l氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射和離子鍍。

              真空蒸鍍:在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發(fā),然后凝結(jié)在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。

              濺射:濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材(陰極),使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉積的過程。

              離子鍍:離子鍍借助于一種惰性氣體的輝光放電使欲鍍金屬或合金蒸發(fā)離子化,并在這些荷能離子轟擊基體(工件)表面并同時(shí)沉積在其上形成鍍膜。


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              真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

              真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中,然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發(fā),當(dāng)蒸發(fā)原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結(jié)形成具有一定厚度的沉積層日。


              真空鍍膜的形式:蒸發(fā)鍍膜

              工藝原理:

              1)在真空室中,膜料被加熱變成蒸發(fā)原子,蒸發(fā)原子在真空條件下不與殘余氣

              體分子碰撞而到達(dá)工件表面;

              2)蒸發(fā)原子與基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;

              3)吸附原子在基材表面發(fā)生表面擴(kuò)散。


              離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng),習(xí)而凡是有電場(chǎng)存在的部位,均能獲得良好鍍層,這比普通真空鍍膜只能在直射向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此,這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽0窄縫。等其他方法難鍍的部位。


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