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發(fā)布時(shí)間：2020-12-29 11:44
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對(duì)于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等;對(duì)于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對(duì)某波長(zhǎng)增反射、對(duì)另一波長(zhǎng)增透射的特殊膜，如激光倍頻技術(shù)中的分光膜。概述鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%，但不可高于98%。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制
真空鍍膜一種通過(guò)物理方法生產(chǎn)薄膜材料的技術(shù)。真空室中材料的原子與熱源隔離，并撞擊要鍍覆的物體表面。這項(xiàng)技術(shù)*首先用于生產(chǎn)光學(xué)透鏡，例如船用望遠(yuǎn)鏡透鏡。后來(lái)擴(kuò)展到其他功能膜，例如記錄鋁電鍍，裝飾涂層和材料表面改性。例如，表殼鍍有仿金，然后對(duì)機(jī)床進(jìn)行了涂層處理以改變加工硬度。真空鍍膜主要使用輝光放電在目標(biāo)表面擊中ya（Ar）離zi。靶的原子被噴射并沉積在基板表面上以形成薄膜。濺射膜的性質(zhì)和均勻性優(yōu)于蒸發(fā)膜，但是涂布速度比蒸發(fā)膜慢得多。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制
離子鍍?cè)谡婵諚l件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應(yīng)離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能噴涂的塑膠材料都能實(shí)現(xiàn)真空鍍，如ABS,P,PMMA，PET,PS等。真空鍍表面顏色不受限制，通過(guò)鍍不同的金屬體現(xiàn)不同的顏色，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，鋁，鎳等來(lái)實(shí)現(xiàn)金色，可鍍金，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，真空鍍可以利用夾具來(lái)遮擋不需要電鍍的區(qū)域。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制
