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化學拋光原理

化學拋光的原理是金屬表面通過有規則溶解達到光亮平滑。在化學拋光材料，拋光蠟 (4張) 光過程中，鋼鐵零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強于后者。

化學拋光是靠化學試劑的化學浸蝕作用對樣品表面凹凸不平區域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。

化學拋光設備簡單，能夠處理細管、帶有深孔及形狀復雜的零件，生產。化學拋光可作為電鍍預處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護措施直接使用。

化學拋光液的成分隨拋光材料的不同而不同。一般為混合酸液。化學拋光溶液由氧化劑和粘滯劑組成。氧化劑起拋光作用，它們是酸類和。常用的酸類有：正磷酸、鉻酸、硫酸、醋酸、、等等。粘滯劑用于控制溶液中的擴散和對流速度，使化學拋光過程均勻進行。

化學拋光廣泛應用于不銹鋼、銅及鋁合金等的拋光，還用于對一些零件做裝飾加工。化學拋光可作為電鍍前的處理工序，也可在拋光后輔以必要的防護措施而直接使用。

首一階段是化學拋光時金屬表面現象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數微米到數十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當于光波長的范圍。可將階段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。化學拋光的優點是化學拋光設備簡單，不需要什么特殊設備，只需要一個盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。有些非導體材料也可以用化學拋光，非導體嵌鑲的試樣也可以直接拋光。化學拋光也可以處理形狀比較復雜的零件。