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              微弧氧化技術 參數產品介紹「多圖」

              發布時間:2020-07-27 14:28  

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              影響微弧氧化的因素

              (1)微弧氧化對鋁材要求不高,不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金,只要閥金屬比例占到40%以上,均可用于微弧氧化,且能得到理想膜層。

              (2)表面狀態一般不需要經過拋光處理,對于粗糙的表面,經過微弧氧化,可修復的平整光滑;對于粗糙度低(即光滑)的表面,則會增加粗糙度。

              工件材質及表面狀態對微弧氧化會有一定的影響,所以一定要引起注意。微弧氧化生產線、微弧氧化電源、微弧氧化技術


              微弧氧化過程

                     在微弧氧化處理過程中,待氧化試樣與電源正極相連,作為陽極浸入電解液之中,不銹鋼電解槽作為陰極與電源負極相連。在開通電源后,正脈沖電壓快速升高,電流迅速下降,作為陽極的待氧化試樣開始進行陽極氧化,產生大量微小氣泡,同時在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。隨著電壓的繼續不斷升高,氧化膜的表面會出現輝光放電,微弧和火花放電燈現象。當外加脈沖電壓超過一定值時,材料表面出現一層極細微均勻的放電火花,這種微區火花放電現象在試樣表面不同位置出現,在待微弧氧化表面原位生長陶瓷膜層,以達到強化材料表面的目的。微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源、鋁合金微弧氧化、微弧噴涂


              微弧氧化手電解質溶液及其組分的影響

                     微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術關鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數,所得膜層的性質也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液(如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等),其在溶液中的存在形式較好是膠體狀態。工作電壓過高,工件易出現燒蝕現象,生成的陶瓷層致密性較差,厚度不鈞勻。溶液的pH范圍一般在9~13之間。根據膜層性質的需要,可添加一些有機或無機鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下,電解質濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快。微弧氧化生產線、微弧氧化電源


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