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發布時間:2020-07-23 17:22  
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氮化硅磚采用硅粉氮化后燒結或熱壓方法制取
制取方法
氮化硅磚采用硅粉氮化后燒結或熱壓方法制取。燒制氮化硅磚的生產工藝與鎂質磚大體相仿。為了消除磚在燒成過程中由于MgO和Cr2O3、Al2O3或直接結合氮化硅磚。
優點
氮化硅磚耐火度高,高溫強度大,抗堿性渣侵蝕性強,熱穩定性優良,對酸性渣也有一定的適應性。
應用
用于航空、冶金、機械、半導體等工業中制造高溫軸承、冶金坩堝、半導體區域熔煉舟器等。
Si3N4的使用溫度一般不超過1300°C
氮化硅的很多性能都歸結于此結構。純Si3N4為3119,有α和β兩種晶體結構,均為六角晶形,其分解溫度在空氣中為1800℃,在110MPa氮中為1850℃。優點氮化硅磚耐火度高,高溫強度大,抗堿性渣侵蝕性強,熱穩定性優良,對酸性渣也有一定的適應性。Si3N4 熱膨脹系數低、導熱率高。熱壓燒結的氮化硅加熱到l000℃后投入冷水中也不會。在不太高的溫度下,Si3N4 具有較高的強度和抗沖擊性,但在1200℃以上會隨使用時間的增長而出現破損,使其強度降低,在1450℃以上更易出現疲勞損壞,所以Si3N4 的使用溫度一般不超過1300℃。

Si3N4陶瓷材料作為一種優異的高溫工程材料
Si3N4 陶瓷材料作為一種優異的高溫工程材料,能發揮優勢的是其在高溫領域中的應用。Si3N4 今后的發展方向是:⑴充分發揮和利用Si3N4 本身所具有的優異特性;⑵在Si3N4 粉末燒結時,開發一些新的助熔劑,研究和控制現有助熔劑的成分;⑶改善制粉、成型和燒結工藝; ⑷研制Si3N4 與SiC等材料的復合化,以便制取更多的復合材料。S 它是用硅粉作原料,先用通常成型的方法做成所需的形狀,在氮氣中及1200℃的高溫下進行初步氮化,使其中一部分硅粉與氮反應生成氮化硅,這時整個坯體已經具有一定的強度。然后在1350℃~1450℃的高溫爐中進行二次氮化,反應成氮化硅。氮化硅結合碳化硅磚是以高純SiC為骨料,添加硅粉等外加劑,依據原位生成理論,在氮化爐中燒制而成。用熱壓燒結法可制得達到理論密度99%的氮化硅。
