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              磁控濺射設(shè)備公司信賴推薦 沈陽鵬程有限公司

              發(fā)布時間:2021-08-02 14:29  

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              【磁控濺射鍍膜設(shè)備】使用注意事項

              以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品,歡迎新老客戶蒞臨。

              磁控濺射鍍膜設(shè)備是目種鍍膜產(chǎn)品,相比傳統(tǒng)的水電鍍來講,磁控濺射鍍膜設(shè)備無毒性,能夠掩蓋,彌補多種水電鍍的缺陷。

              近年來磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用,現(xiàn)國內(nèi)磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家大大小小的也非常多,但是專注于磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn),

              經(jīng)驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家,就一定會有一定的規(guī)模,這類磁控濺射鍍膜設(shè)備不像是小件的東西,

              磁控濺射鍍膜設(shè)備其技術(shù)含量非常的高,選購磁控濺射鍍膜設(shè)備時一定要先了解。

              磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)含量高,那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)工程隊伍,

              磁控濺射鍍膜設(shè)備行業(yè)資深的,磁控濺射鍍膜設(shè)備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設(shè)計配置。



              自動磁控濺射系鍍膜機介紹

              以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

              自動磁控濺射系統(tǒng)選配項:

              RF、DC濺射

              熱蒸鍍能力

              RF或DC偏壓(1000V)

              樣品臺可加熱到700°C

              膜厚監(jiān)測儀

              基片的RF射頻等離子清洗


              應(yīng)用:

              晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

              光學(xué)以及ITO涂覆

              帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

              帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射




              磁控濺射系統(tǒng)介紹

              想了解更多關(guān)于磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊,請持續(xù)關(guān)注本公司。

              真空泵和測量裝置:

              低真空:干泵和convectron真空規(guī)

              高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī)

              5.控制系統(tǒng):

              硬件:PLC和計算機觸摸屏控制

              自動和手動沉積控制

              主要特點:

              射頻電源:基底預(yù)先清洗和等離子體輔助沉積

              溫度控制器:基底加熱

              大面積基底傳送裝置

              冷卻系統(tǒng)



              小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)簡介

              小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)適合于快速濺射鍍膜科研、教學(xué)與小批量打樣,可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。

              具有一體化、占用空間小、靈活的特點,無需380V工業(yè)電,無需額外冷水機,采用無油干泵分子泵組,無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染。

              保證設(shè)備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性。觸摸屏控制界面,帶來簡單、操作方便的體驗。

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