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發布時間:2021-07-28 09:26  
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鍍硬鉻問題解答及其工藝影響因素分析:
問題:鍍硬鉻,其厚度和硬度一般能夠達到多少啊?
關于這一問題,其具體的回答是:鍍硬鉻,其厚度能達到0.03—0.07mm,硬度上能夠達到HV800以上。
在鍍硬鉻工藝中,其也是有一些影響因素的,所以下面小編就來分析講解一下。
CrO3濃度與導電性:在鉻酐小于450g/l這一條件下,一般是鉻酐濃度越高,則導電性能就越好。
溫度與導電性:一般是溫度越高,則導電性越好。
CrO3濃度與電流效率:一般是鉻酐濃度越高,則電流效率會下降。
三價鉻方面:
三價鉻少,則鍍層沉積速率會變慢;三價鉻高,則會使鍍層變暗。
三價鉻增加,則會使導電度下降,還會影響到鍍層的光澤度。
鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法
鍍硬鉻廠家介紹鍍層粗糙有鉻瘤原因分析及處理方法陰極電流密度過大 在鍍鉻過程中,陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關系。在同一溶液中鍍鉻時,通過調整溫度和電流密度,并控制在適當的范圍內,可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層。在低溫高電流密度區,鉻鍍層呈灰暗色或燒焦,這種鍍層具有網狀裂紋、硬度大、脆性大;高溫低電流密度區,鉻層呈乳白色,這種組織細致、氣孔少、無裂紋,防護性能較好,但硬度低,耐磨性差;中溫中電流密度區或兩者配合較好時,可獲得光亮鍍鉻層,這種鉻層硬度較高,有細而稠密的網狀裂紋。若配合不當,對鍍鉻溶液的陰極電流效率、分散能力、鍍層的硬度和光亮度都有很大的影響。如鍍液溫度高達70℃左右,那么即使升高電流密度,也難以得到光亮的鍍層。生產上一般采用中等溫度(45~60℃)與中等電流密度(30~45A/dm2)以得到光亮度和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍取光亮鍍層的工藝條件相當寬,但考慮到鍍鉻液的分散能力特別差,在形狀復雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時,要在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層,必須嚴格控制溫度和電流密度。當鍍鉻工藝條件確定后,鍍液的溫度變化控制在±2℃以內。

③ 缸體內表面所鍍硬鉻層發生剝離一般認為,電鍍硬鉻層發生剝離的原因如下。
a.電鍍層黏結不好。電鍍層黏結不好的主要原因是:電鍍前,零件的除油脫脂處理不充分;零件表面活化處理不,氧化膜層未去除掉。
b.硬輅層磨損。電鍍硬鉻層的磨損,多數是由于活塞的摩擦鐵粉的研磨作用造成的, 中間夾有水分時,磨損更快。
