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為了驗證有限元計算的結果，對真空室的形變和補償進行了測試。第壹步，將四只千分表定位在工作臺安裝基點的真空壁外側，當真空室由大氣抽到真空時，記錄各千分表的變化量，經過一化處理后為用激光自準直儀調整變補償。真空鍍膜價格由水平調整的自準直儀發出一束激光穿過真空室的玻璃窗照射固定于工作臺上的反射鏡，在大氣環境下調整變補償調節機構，使反射光束進入自準直儀接收視場，記錄兩維角度偏差。

金屬電鍍加工廠電鍍要進行以下這樣的進程:首要金屬真空鍍膜加工廠在盛有電鍍液的鍍槽中，通過整理和特別預處理的待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽極，南北極別離與直流電源的負極和正極聯接。電鍍液由富含鍍覆金屬的化合物、導電的鹽類、緩沖劑、pH調節劑和添加劑等的水溶液組成。通電后，電鍍液中的金屬離子，在電位差的效果下移動到陰極上構成鍍層。陽極的金屬構成金屬離子進入電鍍液，以堅持被鍍覆的金屬離子的濃度。

高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器初步、一直到新式建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需求。透水性膜用以拍照和林林總總激光發生器的起動，直至在建大中型鍍層夾層玻璃，對錯常有必要的。增透膜則很多用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。

   在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的位置。各種設計的承繼電路。包含存貯器、運算器、奉告邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（CCD）也都甬道各種薄膜。

pvd真空蒸發鍍膜：定義：pvd真空蒸發鍍膜是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發物質使之汽化，蒸發粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態薄膜的技術。真空蒸發踱膜主要經歷：1、采用各種能源方式轉換成熱能，加熱膜材使之蒸發或升華，成為具有一定能星的氣態粒子（原子、分子和原子團）；2、離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；3、到達基體表面的氣態粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；4、組成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合。