AF真空鍍膜設備優惠報價「至成真空科技」

什么是光學鍍膜：

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

光學鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發涂層通常是加熱目標，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發，并通過成膜方法（散射島結構-梯形結構-層狀生長）沉積在基材的表面上，薄膜。

對于濺射狀涂層，很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見的光學鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

2、氧化鋯材料特點白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

AF防指紋真空鍍膜機防指紋處理的工藝流程：

（1）使用弱堿性清洗劑或溶劑去除基材表面油分、水分等污跡，通過超聲波清洗效果更好;（2）將AF藥液鍍在產品表面成膜;（3）烘烤：噴涂后取出玻璃，放入烤箱（120度，30分鐘），視具體要求及產品情況調整至良好;（4）清潔：產品清潔后，成品包裝。

AF防指紋真空鍍膜機特點和應用領域:

（1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；（2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；（3）膜層薄：優異光學性能、不改變原有的紋理；（4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF防指紋真空鍍膜機的品質：

（1）擦傷測試及水滴角指標：（2）初始水滴角115-120度，（3）擦傷測試（#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、（4）摩擦次數2000次）后，水滴角108-116度。（5）表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例，9HMax.鉛筆硬度。

包裝卷繞真空鍍膜設備

HCPAK系列卷繞鍍膜設備是用于鋁屏障包裝應用的卷對卷金屬化解決方案。在利潤率較低的行業中，的生產效率，再加上的產品性能，是應對未來挑戰的。

通過將傳統的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強光學、保護和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100～3850mm的寬幅，以及所有常見的塑料薄膜和紙張基材，針對2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實現輸出，比傳統系統提高25%以上的處理速度。

特點：高正常運行時間，因為一個強大和服務友好的機器概念由于強大的等離子預處理，產品一致性高，阻隔性能提高由于鋁蒸發器源的優化配置，在層均勻性方面具有的產品質量簡化操作和優化設計，便于操作的設備卷繞系統的創新設計概念使卷繞路徑能夠靈活地適應基板和應用的個別要求。由于穩健的機器設計，正常運行時間很長