保溫杯真空uv鍍廠詢問報價,恒緣鈦金值得信賴

保溫杯真空uv鍍廠武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務的廠家，主要鍍膜產品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產品進行設計和定制。

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相對蒸騰鍍，磁控濺射鍍膜有如下的特點：

1．膜厚可控性和重復性好

2.薄膜與基片的附著力強

3.能夠制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包含合金，化合物等

4.膜層純度高，細密

5.堆積速率低，設備也更復雜

恒緣鈦金廠將竭誠為您提供周到的表面處理加工服務。歡迎您致電圖片上方的聯(lián)系方式。

恒緣鈦金與您分享真空電鍍對于鍍層的主要要求是什么?

當前位置：首頁 ? 千屹新聞中心 ? 資訊中心 ? 電鍍百科 ? 真空電鍍對于鍍層的主要要求是什么?真空電鍍對于鍍層的主要要求是什么?瀏覽：30 發(fā)布日期：2017-10-07 10:26:38【大 中 小】真空電鍍對于鍍層是有要求的，千屹電鍍廠家下面就為大家介紹一下電鍍對于鍍層的主要要求是什么。但無可否認，設備結構雜亂，濺射靶材一旦穿透就會導致整塊靶材的作廢也是它的缺陷之一，所以靶材的利用率低。

鍍層與基體的結合一定要結實牢固，附著力好，這是一點。另外，真空電鍍層要求是完整的，而且結晶細致緊密，孔隙率也要小，這是第二點。第三個，要求有良好的物理、化學以及機械性能并且有符合標準規(guī)定的鍍層厚度，主要的是，真空電鍍的鍍層分布要均勻。

真空爐內離子電鍍，對于電鍍的產品大小也有要求，不能太大，只能電鍍小五金件和首飾產品等小型產品，材質也有一定的規(guī)定，可以電鍍不銹鋼、合金、銅等，但是不可以電鍍塑料材質。

恒緣鈦金與您分享什么是PVD鍍鈦工藝

(物理氣相沉積)的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產物沉積在工件上。

PVD技術的發(fā)展

PVD技術出現(xiàn)于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學穩(wěn)定性等優(yōu)點。五金真空電鍍鈦的特性和不銹鋼電鍍差不多，能夠在潮濕的環(huán)境下持久保色，同樣具有抗腐蝕性以及抗yang化性能，清潔也簡單，耐久性方面可通過表面拋光的方式常年維持，經濟適用性好。初在高速鋼dao具領域的成功應用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開發(fā)、高可靠性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層;PVD工藝對環(huán)境無不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。目前PVD涂層技術已普遍應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，涂層成分也由第yi代的TiN發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層。