鹽城AF光學鍍膜機廠家報價「至成真空科技」

電子束蒸發真空鍍膜機應用及特點

真空鍍膜機已經廣泛運用到我們的生活中，以前物件鍍上一層一層的膜是為了延長壽命，防止腐蝕。然而隨著人民的生活質量不斷的提升，對于物件外表的膜層不僅僅只是停留在延長使用壽命上，同時更多關注物件的外觀是否絢麗美觀。真空鍍膜機在日常生活中運用無處不在，使用的行業不一樣，鍍的產品不一樣，鍍膜機的型號是不相同的。今天至成真空小編為大家介紹一下電子束蒸發真空鍍膜機應用及特點。

首先簡單為大家介紹一下蒸發系列卷繞真空鍍膜機，它主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業等領域。本系列設備具有運行平穩、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩定等特點

電子束蒸發真空鍍膜機真空鍍膜是將固體材料置于真空室內，在真空條件下，將固體材料加熱蒸發，蒸發出來的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當把一些加工好的基板材料放在其中時，蒸發出來的原子或分子就會吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法,一是蒸發,一是濺射。在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發，使其淀積在適當的表面上。

那么電子束蒸發鍍膜機的結構特點有哪些呢？

（1）卷饒系統采用支流或交流變頻調速，具有運行平穩、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面征集等特點；

（2）張力控制采用進口數字張力控制系統，具有張力、線速度恒定，動作快速的特點；

（3）各組送絲由微機電機獨立控制，可總調或單獨調速，并有速度顯示；

（4）真空系統配置精良，抽氣速度快，采用PLC控制；

（5）配備大功率電源，鍍膜，膜層均勻性好。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術

很多朋友問我關于多弧離子真空鍍膜機真空技術方面的問題，當時給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬，蒸發物是從陰極弧光放電放出的陰極物質的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發的靶材接陰極，真空室為陽極，當觸發電極與陰極靶突然瞬間接觸時，就會引起電弧，在陰極表面產生強烈發光的陰極弧光斑點，斑點直徑在100?m以下，斑點內的電流密度可達103~107A/cm2于是在這一區域內的材料就瞬時蒸發并電離。陰極弧光斑點在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規則運動，外加磁場用來控制輝點的運動軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發射和正離子電流這兩種機制同時存在且相互制約而實現的。

在放電過程中，陰極材料大量蒸發，這些蒸汽分子產生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內產生極強的電場，在這樣強的電場作用下，電子以產生以場電子發射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產生強電場，使陰極表面上功函數小的點(晶界或裂痕)開始發射電子。個別發射電子密度高的點，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產生熱電子，進一步增加發射電子。這個正反饋作用使電流局部集中。由于電流局部集中產生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發性地等離子化，發射電子和離子，并留下放電痕。同時也放出熔融的陰極材料粒子。發射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產生強電場，又使新的功函數小的點開始發射電子。

磁控真空鍍膜機做漸變色原理

現在很多物件都鍍有漸變色，顏色很絢麗也很顯目，現在很多牌子手機殼也應用了這種漸變色，因此，漸變色也越來越受人們關注，漸變色制作原理也激起了大家的興趣，今天至成小編為大家詳細介紹一下真開工鍍膜機做漸變色的原理和方法，希望能幫助到大家。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設備，目前華為、聯想等多款手機漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設備是現有產品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設備，一臺完整的磁控濺射真空鍍膜機是由多部分系統組成的，每個系統可以完成不同的功能，從而實現終的鍍膜，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機械泵、真空測試系統、油擴散泵、抽真空系統、冷凝泵以及成膜控制系統等等。

磁控濺射真空鍍膜機的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結實耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統能采用不同方式，比如固定鍍制時間、目測、監控以及水晶震蕩監控等。真空鍍膜機、真空鍍膜設備鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強，膜層的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料。