溫州PVD離子鍍膜設備廠家報價 至成鍍膜設備生產廠家

真空鍍膜設備的相關特性是什么呢?

真空鍍膜設備的相關特性是什么呢？ 1.真空鍍膜設備沉積材料：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據需要設計涂層體系. 2.真空鍍膜設備節約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規濕法電鍍鍍層，達到節約的目的. 3.真空鍍膜設備無環境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環境的危害相當小。

實驗室中使用小型鍍膜設備

實驗室中使用小型鍍膜設備 我們在實驗室中使用的基本上都是小型的鍍膜設備，下面我們就來了解一下這種設備。 用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經常采用的運動方式。 排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發源和工作物表面所產生的氣體。

真空鍍膜機注意事項及保養

真空鍍膜機注意事項及保養 真空鍍膜機的鍍膜原理是在高真空條件下，利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當溫度，熱蒸發成蒸氣分子材料，蒸發出來的分子到處迸射，碰到待鍍物體，隨之沉積在基材表面形成膜層。真空鍍膜機廣泛應用于微電子，光學成膜，裝飾，表面工程等領域。它在防止油污和工作效率上具有非常好的性能。而想要真空鍍膜設備長期穩定的運行，正確的使用及保養方法是必不可少的。 開機前要檢查水電氣是否正常，開機后，光控系統等于要先穩定1小時再使用，鍍膜前要檢查光控片、晶控片壽命，加料、清潔之類的需要蓋上離子源的防護板，防止離子源柵網損壞。為了使光學鍍膜機能正常工作，平時需要對機器進行保養，定期更換泵油，2個月左右為宜，真空泵也2個月一換，新的真空泵需要在使用半個月就立即更換，定期清潔設備及周邊環境，保持設備及環境的干凈。