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隨著鍍膜技術的快速增長，各種類型的真空鍍膜機也開始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響，現在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些。  

   對此，真空鍍膜機廠家指出，它的運作原理其實很簡單。就是通過真空狀態下正交磁場使電子轟擊氣形成的離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關的有真空狀態、磁場、氣這三個方面。真空狀態就需要抽氣系統來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空機的存在，要控制好還是不成問題的

真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被廣泛應用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領域。真空鍍膜技術也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法（PVD），是基本的涂層制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。

真空鍍膜是在高真空中加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結在鍍膜部件表面形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空系統應用發展領域的一個非常重要內容方面，它是以真空處理技術為基礎，利用物理或化學教學方法，并吸收電子束、分子束、離子束等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。

鍍膜形成的薄膜的特性：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何切割，膜層的折射率可以是在界面開始，但膜是連續的，能夠是通明介質，也能夠是光學薄膜。

吸收介質：能夠是法向均勻的，也能夠是法向不均勻的，實際需要使用的薄膜要比抱負薄膜進行復雜得多，這是因為，制備時，薄膜的光學系統性質和物理化學性質發生偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而可以導致一個光束的漫散射，膜層之間的相互影響滲透形成一種擴散信息界面，因為膜層的成長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各向異性，膜層具有非常復雜的時刻效應。