企石拉絲面曝光顯影廠家品牌企業

顯影時，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數碼復合機與激光打印機中。顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。多用在模擬復印機中。反轉顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。


顯影液的成分與功能.一般顯影液由顯影劑、保護劑、促進劑和抑zhi制劑組成.顯影劑 米妥爾：顯影速度快,反差小,受溫度影響小.對本二酚：顯影緩和,反差大,受溫度影響大.菲尼酮：損耗低,用量小,易保存,易產生灰霧.保護劑：無水亞硫酸鈉 在顯影液中Na2SO先與氧氣化合,防止了顯影劑的氧化,且有溶解銀鹽的的作用,有微粒效果.促進劑：無水碳酸鈉.在顯影中它能產生酸性物質xiu氫酸,起到妨礙顯影劑的作用,故用Na 2SO 3增加堿性.

在曝光機橡皮膜接觸菲林底片一側粘上一塊絨布，絨毛朝菲林底片，絨布的背面繞上幾圈銅絲，銅絲與橡皮膜的接地線相連，防止絨布產生靜電。絨布和橡皮膜之間不好粘貼，要選用合適的膠水，但不宜使用含有有機溶液的膠水，否則容易損壞橡皮膜。此法生產效率較高，但同樣不能杜絕偏移。

以上幾種方法中，實用的是前面一種。雖然效率低些，但相對于因偏移造成返工甚至使PCB報廢而言還是值得采用的。

若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。曝光時間過長。當曝光過度時，紫外光透過照相底片上透明部分并產生折射、衍射現象，照射到照相底片不透明部分下的干膜處，使本來不應該發生光聚合反應的該部分干膜，被部分曝光后發生聚合反應，顯影時就會產生余膠和線條過細的現象。因此，適當的控制曝光時間是控制顯影效果的重要條件。