標(biāo)牌曝光顯影拋光品牌企業(yè)「在線咨詢」

之后將抗蝕層清除，就可展現(xiàn)出蝕刻的成品樣子。燙金或者發(fā)黑都可以被用于突出圖案。金屬蝕刻制品上的圖案往往比傳統(tǒng)雕刻更方便而代價更少。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。你都了解清楚了嗎？


照相底片反差不夠。照相底片的質(zhì)量好壞，可采用光密度表示：底片黑的部分光密度高；透明的部分光密度小，兩者之間差值越大越好，即稱之謂反差好。如果照相底片本身反差不夠，會直接影響到曝光時間的控制。如果某些用于圖形轉(zhuǎn)移的陽片，不透明部分光密度不夠高，直接影響到覆蓋下的干膜也會發(fā)生明顯的光聚合反應(yīng)，而且產(chǎn)生較大面積的余膠。所以，要嚴(yán)格控制照相底片的質(zhì)量。

負(fù)膠：曝光區(qū)域發(fā)生交聯(lián)，難溶于顯影液。特性：良好的粘附能力、良好的阻擋作用、感光速度快；顯影時發(fā)生變形和膨脹，所以只能用于2μm的分辨率。

正膠：正性光刻膠的曝光區(qū)域更加容易溶解于顯影液。特性：分辨率高、臺階覆蓋好、對比度好；粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。

目前一般都是用正膠，對于線寬要求不高的時候或者一些特殊的用途（比如PSS等）可以選擇負(fù)膠