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什么是光學鍍膜：

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

光學鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發涂層通常是加熱目標，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發，并通過成膜方法（散射島結構-梯形結構-層狀生長）沉積在基材的表面上，薄膜。

對于濺射狀涂層，很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見的光學鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

2、氧化鋯材料特點白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

真空鍍膜技術在光學儀器中的應用

人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學儀器中的光學系統都由多個透鏡組成，光線要經玻璃界面，會有相當多的光線被反射掉，透過的光線很少，影響光學儀器的光學效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過率，往往在玻璃表面沉積增透膜來提高光的透過率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學儀器、激光器、波導管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質反射膜。其結構是在基片上交替沉積光學厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

AF防指紋真空鍍膜機防指紋處理的工藝流程：

（1）使用弱堿性清洗劑或溶劑去除基材表面油分、水分等污跡，通過超聲波清洗效果更好;（2）將AF藥液鍍在產品表面成膜;（3）烘烤：噴涂后取出玻璃，放入烤箱（120度，30分鐘），視具體要求及產品情況調整至良好;（4）清潔：產品清潔后，成品包裝。

AF防指紋真空鍍膜機特點和應用領域:

（1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；（2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；（3）膜層薄：優異光學性能、不改變原有的紋理；（4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF防指紋真空鍍膜機的品質：

（1）擦傷測試及水滴角指標：（2）初始水滴角115-120度，（3）擦傷測試（#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、（4）摩擦次數2000次）后，水滴角108-116度。（5）表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例，9HMax.鉛筆硬度。

真空鍍膜技術優點

清洗過程簡化：現有真空鍍膜機PVD涂層鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程。清洗效果良好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

可鍍材料廣泛：離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進了表層組織的擴散作用和化學反應。然而，整個工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。