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真空鍍膜設備檢漏環節,你都會了嗎?

新人來公司報道，前期都要進行嚴格的真空鍍膜設備撿漏培訓，后期還要經過公司傳幫帶的方式來幫助新人快速成長，為什么公司對撿漏培訓如此重視和嚴格，下面小編為大家講解真空鍍膜設備撿漏的重要性：真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，如果撿漏有紕漏，必然會造成或大或小的損失，由此得不償失，所以機器在運作過程中檢漏環節是必不可少的。經驗豐富的技術人員都知道，撿漏產生的原因一般都是真空室內漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的連接位細縫中產生，當抽氣系統抽氣后使真空室內壓強下降，外部與內部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內，造成真空度下降。

真空卷繞鍍膜機

的卷繞系統采用四電機驅動，恒張力控制，可實現距離卷繞和接觸卷繞兩種卷繞方式。提供了多種不同的卷繞方式，以適用于所鍍制的薄膜種類和工藝要求。在卷繞系統中設置了適用于CPP、PET、OPP等多種塑料薄膜特殊的展平裝置，能達到無褶皺、無劃傷、無邊緣積聚的優良蒸鍍和收卷質量。強勁實用的抽真空系統相對獨立的卷繞室和蒸發室，每一個室都有一套獨立的真空泵組與其對應。能在很短的時間內達到鍍膜所需的工作真空度，使設備的生產率得到很大地提高。蒸發源系統通過嚴密的計算采取恰當的蒸發距離和舟間距，采取交錯安裝的排布形式，使用兩端頂持的舟安裝方式保證了良好的蒸鍍均勻性的成膜質量?？梢允褂闷胀ㄕ舭l速率的陶瓷蒸發舟，也可以使用高蒸發率的蒸發舟。其功率可達14KVA，蒸發速率可達9克/分鐘。冷卻加熱系統：蒸鍍輥配制有獨立的冷卻加熱系統，采用特殊的油導熱介質，能有效的冷卻蒸鍍輥，防止薄膜熱損傷。等離子預處理裝置：在鍍前對薄膜表面進行離子轟擊處理，除去薄膜表面吸附的水氣及雜質，提高附著力，改善鍍膜質量。簡單便捷的控制系統：便捷的全自動控制系統和友好的操作界面，可根據需要分別采用手動、半自動以及自動方式。

真空鍍中對底涂層的要求：

①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結合力，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應力小、耐熱性能好。③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。 真空鍍對面涂層的要求：①與鍍膜層要有良好的接觸性能;②與底涂層要有一定的相溶性;③成膜性能與施涂性能優良;具有適當的機械強度;④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好?？估匣阅軓?。由于產品的特殊需要，在面涂層上還可進一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

真空鍍膜機蒸發與磁控濺射鍍鋁性能

嚴格控制發Al膜的厚度是十分重要的，因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導體器件，Al層偏薄，則膜的連續性較差，呈島狀或網狀結構，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產生邊緣腐蝕和“連條”現象。 采用真空鍍膜機電子束蒸發，行星機構在沉積薄膜時均勻轉動，各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構的聚焦點在坩堝蒸發源處，各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調節并控制，因此膜厚的可控性和重復性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。