東莞防油納米涂層誠信企業推薦「菱威納米」

       真空涂層技術發展到了今天還出現了PCVD(物理化學氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優劣，為了盡可能地發揮它們各自的優越性，實現互補，將多弧技術與磁控技術合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。

       對于在太空飛行的航天器來講，真空是一個天然的、現實的外部環境，為真空絕緣應用提供了的自然條件。通過派瑞林真空氣相鍍膜保護技術，對實際的產品進行了絕緣設計及工藝驗證。結果表明，采用真空氣相沉積工藝在電極表面涂敷一定厚度的Parylene涂層，可以更好地滿足產品在真空環境下的絕緣防護性能要求。

       真空絕緣是基于空氣擊穿放電的機理，不同于固體或液體絕緣，因其本身的”真空”，缺少足夠的可以移動的離子，也不會受到材料老化影響，不會受到機械、熱、化學、濕度、輻射等因素的影響，這是在應用時的天然形成的許多優點，正是基于這些優點，分析認為更符合在空間環境中應用的高電壓電子產品。

       比較各種產品在惡劣環境下的性能，也可以讓用戶根據使用條件來進行產品選擇。例如：腐蝕性氣體環境對保形涂層、聚氨酯樹脂和硅樹脂的影響。通過將三者暴露于混合氣體環境后，檢查LED燈珠的光通量百分比降低。這些結果清楚地說明了為環境選擇正確產品的重要性。雖然保形涂層在腐蝕性氣體環境中表面絕緣電阻不會劣化，但是對于LED燈珠而言，它不能保護LED燈珠，因為它可以讓氣體通過薄涂層并穿透LED燈珠，從而隨時間推移，其性能降低。