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              PVD中頻離子鍍膜機價格「至成真空科技」

              發布時間:2021-05-13 05:55  

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              離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產品表面防腐方法


              不銹鋼基材通常會用拋光、拉絲、噴砂、化學蝕刻、激光雕刻、數控機床雕刻等作表面美工處理,有的還用激光焊接,水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機啟到了很關鍵的作用,今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產品表面防腐方法。

              其實大家都知道,以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法,各自有各自的優勢和劣勢。如:拋光作業會在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟;尼龍輪拉絲在拉絲溝上會殘留透明的不易發現的高分子化合物;砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結劑,或因摩擦過熱產生氧化皮;噴砂會有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上;化學蝕刻會有腐蝕產物殘留在腐蝕坑內,或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護物質;激光雕刻處理會產生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留;數控機床雕刻會有高溫氧化皮和切削油殘留,還會有基材碎片被壓入基體上;激光焊接也會導致高溫氧化等;水法電鍍鉻層會生成難以去除的復雜氧化物,這些處理引起的污染不徹底清除會導致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。


              在離子真空鍍膜機鍍產品中美工處理方式往往不是單一的,而是多種作業組合,這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的,必須調整清洗工藝,對不同的污染,可選擇機械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果,但對有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應用到鍍前清洗是值得關注的技術,該技術在某些鍍層的褪鍍取得良好效果。



              真空鍍膜機PVD涂層技術有哪些優點


              真空鍍膜機PVD涂層技術適用于各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質合金工具,那么它有哪些優點和特點呢?下面至成小編為大家詳細介紹一下:

              (1)PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質合金上,對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻,然后才適合鍍PVD,但是水鍍后做PVD容易起泡,不良率較高;

              (2)典型的PVD涂層加工溫度在250℃~450℃之間;

              (3)涂層種類和厚度決定工藝時間,一般工藝時間為3~6小時;


              (4)PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工;

              (5)PVD技術不僅提高了鍍膜與基體材料的結合強度,涂層成分也由TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層,形成不同的顏色的表面效果。

              (6)目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色值進行測量,使顏色得以量化,以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。



              新型磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝


              磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝在鍍膜行業無處不在,只要說到鍍膜技術,大家都會立刻想到磁控鍍膜工藝,磁控濺射真空鍍膜機也受到了各大廠家的追捧,磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛,今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝。

              其實從一般的金屬靶材濺射、反應濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業需求及新型磁控濺射技術的出現,低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領域的發展趨勢。低壓濺射的關鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規磁控濺射技術中不足以維持靶材表面的輝光放電,導致濺射沉積無法繼續進行。通過優化磁場設計,使得電子空間運動距離延長,非平衡磁控濺射技術可以實現在10-2Pa等級的真空下進行濺射沉積。另外,通過外加電磁場約束電子運動可以實現更低壓強下的濺射沉積。進行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實現高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時,不會產生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應提高等。目前,已經實現了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。



              真空離子鍍膜設備的操作步驟是什么


              在操作真空離子鍍膜設備時,請參閱設備規格、儀表板指針顯示和每個旋鈕下的標記說明:檢查真空離子鍍膜設備操作控制開關處于“關閉”位置。打開主電源開關為設備供電。按“復位”和鈕復位整臺機器的控制電源。

              啟動水冷卻系統,連接真空離子鍍膜設備的冷卻水。操作臺上的控制方式選擇開關是以“自動齒輪”保持泵VP1和VP2啟動,助推器泵BP和擴壓泵DP啟動預熱,時間約60分鐘。將全纏繞鋁線送絲盤放入軸銷,然后安裝在支撐板上。

              鋁線通過送絲輪和管道通到蒸發船的頂部,調整彈簧的張力,使壓輪不打滑地壓緊鋁絲,使鋁線順利運輸。用石墨紙包裹蒸發舟的兩端,然后將其壓入電極。關閉蒸發罐擋板。基材卷筒安裝在卸料軸上,空卷筒安裝在收集器軸上,然后放卷座和卷軸座分別固定。調整基材和筒芯的位置,并將筒芯泵緊。

              在觸摸屏主控制屏上設置真空離子鍍膜設備的卷繞參數,包括直徑、寬度、張力、停止直徑、卷繞速度、卷繞張力等。根據卷繞流程圖,從放電軸繪制基片,并將其纏繞到采集軸,并在操作過程中對薄膜進行緊固和對齊。按下操作臺上的“收卷”按鈕,收卷系統按設定值進入零速張力保持狀態,收卷系統將收卷物料。



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