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發布時間：2021-09-09 18:10
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整流電源：采用制作的穩壓開關電源，電轉換效率>92%，發熱量低，運行穩定；電源本身具有輸入過壓/欠壓保護、輸出過壓/過流/短路保護、過熱保護等，確保電源運行的高可靠性和安全性能。
次lv酸鈉存儲裝置：存儲罐用于存儲發生器所制取的全部次lv酸鈉溶液，帶有高、低液位控制，當液位達到高位時，處于滿槽狀態，發生器暫停運行，并點亮滿槽燈，隨著溶液的逐漸被使用，當液位下降至中位時，發生器重新啟動運行，滿槽燈滅，當液位下降至低位控制點以下時，表示存儲槽的次lv酸鈉溶液已經很少，系統會暫停自動投氯，直至液位上升至低位控制點以上。鹽水溶液電解過程可用下列反應方程式表示：NaCl=Na Cl-。
排氫裝置：發生器在電解的過程會產生少量的氫氣副產物，設置排氫裝置保證氫氣安全排放。
自動控制系統：可根據客戶要求配置PLC自動控制，變頻投加與在線余氯儀及控制中心組成成套閉環投加控制系統，余氯監測儀對樣水的余氯量進行實時監測，并把數據轉化為4～20mA信號發送至控制中心PLC，控制中心對該數據進行運算后輸出信號對等4～20mA給變頻器，從而控制投加計量泵的流量，獲得管網余氯的穩定值，實現閉環、可靠、穩定、安全的變頻投加、監測及控制。次氯酸的氧化作用：次氯酸為很小的中性分子，它能通過擴散到帶負電荷的菌體表面，并通過細胞壁穿透到菌體內部起氧化作用，破壞細菌的磷酸脫氫酶，使糖代謝失衡而致細菌死。
次發生器是市面上比較常見的一種水處理殺菌設備，像其他設備一樣，在日常使用的過程中也要做好次發生器的保養與維護措施來保證設備的正常工作，延長次發生器的使用壽命。而常見的保養與維護措施如下：
一、在設備進行電解反應過程中，有效的氯含量應該保持在百分之一以內，這是因為如果氯含量太高不僅會影響處理的反應結果，同時也會影響電極的使用壽命
二、在日常的使用過程中，由于部分地區的水中鈣元素和鐵離子的含量較高，此時在電解的過程中就會出現CACO3，Fe(oH)3等雜質，這些雜質在水中可能會造成陰陽極的短路甚至會擊穿電極。②鹽水箱：預軟化水與鹽在此配置成飽和鹽水后自動稀釋成3%-5%的稀鹽水。所以，用戶要根據自己當地的水質情況，定期清理設備，保持設備的清潔，避免雜質的堆積。
三、在清洗次發生器用鈦陽極時，一定要輕拿輕放，清洗時要用毛刷輕輕的掃去表面的污垢，避免用尖銳的利器刮蹭，避免傷害鈦陽極的表面涂層。
四、設備在運行的過程中要經常觀察設備的點解電流與電壓是否在規定的范圍內。及時的檢測鹽酸液與冷卻水的流通情況，防止堵塞的情況發生。
五、設備在運行二十個小時后就要停機檢查，將設備的鹽水閥關閉，將電解槽內的lv氣排空，并打開沖洗閥門進行沖洗。沖洗完畢后關閉沖洗閥并且排空，打開鹽水伐，做好設備的啟動準備工作。
六、次發生器在安裝的過程中應該安裝在通風環境好、光線充足的室內，并且周圍保持整潔，不能有雜物堆放。排氫管道應放置在室外，并且周圍避免明火或其他火源的出現，室內嚴禁煙火。
次發生器主機：集成電解槽、電解電源、計量泵、控制系統等為一體，
電解槽通過電解電源輸入的電流使得電解槽陰陽極之間的稀鹽水溶液發生電離效應，產生次溶液，使用計量泵進行稀鹽輸入電解槽。電解槽一直處于較低溫度狀態，可以保持很高的電解效率；
發生器在電解的過程會產生很少量的氫氣副產物，空間氫氣濃度必須達到3%以下，為了更加的運行本系統，本產品控制要求氫氣濃度低于1%（達到零氫氣及零殘留），實時的對氫氣進行強制稀釋并排放，本系統采用二級排放方式，確保氫氣排放、安全。
主要部件功能
(1) 水射器：水射器是根據射流原理而設計的一種抽氣元件,當動力水經過水射器時,其內部產生負壓,外部氣體在壓差作用下被子吸入水射器,從而實現吸氣。被吸入的CLO2氣體在些與混合,形成消毒液,另外,水射器還用于原料罐吸收。
(2) 計量泵：輸送原料及調節流量。
(3) 反映器曝氣口〔進氣口〕：設備運行時的空氣通道,安裝時,可連接管道并通到室外,并保持與大氣相通。
(4) 電接點壓力表：電接點壓力表是保護設備安全運行的裝置之一,其工作原理是：當水射器前端水壓低于設定值時,該表控制計量泵停止進料。
次氯酸鈉發生器是水處理消毒菌設備的一種，該設備以鹽水作為原材料，通過電解反應產生次氯酸鈉溶液。次氯酸鈉是強氧化劑和消毒劑，它是通過取源于廣泛價廉的工業鹽或海水稀溶液，經無隔膜電解而發生的。為確保次氯酸鈉質地新鮮和有較高的活性。保證消毒效果，本裝置一邊發生，一邊將發生的次氯酸鈉投加使用。該工藝具有原料易得、運行穩定、產品純凈等特點，可廣泛用于各類水質的氧化、消毒等。它與氯和氯的化合物相比，具有相同的氧化性和消毒作用。
