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真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是必不可少的一項技術。但是真空鍍膜設備在使用一段時間后，表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。

那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

1、設備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2、設備樣品取出后要注意放置環境的清潔問題。

3、真空鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。

4、真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。

5、真空鍍膜適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。

6、工作人員在操作時需要戴手套、腳套等，要有專門的服裝。

由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用中注意以上幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。

蒸發式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之知一。 蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。蒸發式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發專源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。簡言之，蒸發式真空鍍膜機的工作原理就是真空室內利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。平常我們還應當注意以下幾點：

1、真空鍍膜設備使用一段時間后，必須要對設備進行清潔維護；

2、保證設施設備及操作環境清潔。如材料、樣品放置地環境要求，環境溫度濕度要求等；

3、降低真空鍍膜設備室內空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。