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發布時間：2020-12-17 18:12
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化學氣相沉積技術類型介紹
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化學氣相沉積裝置主要的元件就是反應器。按照反應器結構上的差別，我們可以把化學氣相沉積技術分成開管/封管氣流法兩種類型：
1 封管法這種反應方式是將一定量的反應物質和集體放置于反應器的兩邊，將反應器中抽成真空， 再向其中注入部分輸運氣體，然后再次密封， 再控制反應器兩端的溫度使其有一定差別，它的優點是：①能有效夠避免外部污染；②無須持續抽氣就能使是內部保持真空。
2 開管法這種制備方法的特點是反應氣體混合物能夠隨時補充。廢氣也可以及時排出反應裝置。以加熱方法為區分，開管氣流法應分為熱壁和冷壁兩種。前者的加熱會讓整個沉積室壁都會因此變熱，所以管壁上同樣會發生沉積。如需了解更多化學氣相沉積的相關信息，歡迎關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網站或撥打圖片上的熱點電話，我司會為您提供專業、周到的服務。冷壁式加熱一般會使用感應加熱、通電加熱以及紅外加熱等等。
化學氣相沉積技術的使用
生產晶須：
晶須屬于一種以為發育的單晶體，它在符合材料范疇中有著很大的作用，能夠用于生產一些新型復合材料。 化學氣相沉積法在生產晶須時使用的是金屬鹵化物的氫還原性質。化學氣相沉積法不但能制備出各類金屬晶須，同時也能生產出化合物晶須，比如氧化鋁、金剛砂、碳化鈦晶須等等。等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。
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化學氣相沉積的特點有哪些？
? 高溫石英管反應器設計
? 溫度范圍：室溫到1100度
? 多路氣體準確控制
? 標準氣壓計
? 易于操作
? 可配機械泵實現低壓TCVD
? 可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜
? 液體前驅體噴頭
沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年化學氣相沉積行業經驗，專注化學氣相沉積研發定制與生產，先進的化學氣相沉積生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！！！
等離子體增強化學氣相沉積的主要過程
沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售化學氣相沉積，我們為您分析該產品的以下信息。
等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜的，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式。如果經過檢驗，任何一個邊沿沒有刻蝕合格，則這一批硅片需要重新裝片，進行刻蝕。一般說來,采用PECVD技術制備薄膜材料時，薄膜的生長主要包含以下三個基本過程：
首先，在非平衡等離子體中，電子與反應氣體發生初級反應，使得反應氣體發生分解，形成離子和活性基團的混合物；
其二，各種活性基團向薄膜生長表面和管壁擴散輸運，同時發生各反應物之間的次級反應；
然后，到達生長表面的各種初級反應和次級反應產物被吸附并與表面發生反應，同時伴隨有氣相分子物的再放出。
