深圳中頻離子鍍膜機報價「至成真空科技」

PVD真空鍍膜設備蒸發系統工作方式

PVD真空鍍膜設備蒸發系統主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發根據其結構和工作原理是目前為止應用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發方式，PVD鍍膜也是應用時間長的蒸發方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，再熱傳導給PVD鍍膜材料，當鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發了，PVD鍍膜由于操作方便，結構簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發是到目前為止應用多的一種蒸發方式，PVD鍍膜可以蒸發任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結下來。

至成真空十多年來專業從事各種真空鍍膜應用設備制造，多年來致力于研發和生產真空鍍膜機，以新技術不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機器。

真空鍍膜機磁控濺射主要工藝流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，隨后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空須控制在2×104Pa以上，以保證薄膜的純度；

3、加熱，為了除去基片表面水分，提高膜與基片的結合力，需要對基片進行加熱，溫度一般選擇在150℃~200℃之間；

4、Ar氣分壓，一般選擇在0.01~1Pa范圍內，以滿足輝光放電的氣壓條件；

5、預濺射，預濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜，以免影響薄膜質量；

6、濺射，Ar氣電離后形成的正離子在正交的磁場和電場的作用下，高速轟擊靶材，使濺射出的靶材粒子到達基片表面沉積成膜；

7、退火，薄膜與基片的熱膨脹系數有差異，結合力小，退火時薄膜與基片原子相互擴散可以有效提高粘著力。

真空鍍膜機磁控濺射鍍膜的特點：薄膜純度高，致密，厚度均勻可控制，工藝重復性比較好，附著力強。

依據濺射源的不同，真空鍍膜機磁控濺射有直流和射頻之分，兩者的主要區別在于氣體放電方式不同，真空鍍膜機射頻磁控濺射利用的是射頻放電，陶瓷產品使用的是射頻磁控濺射鍍。

PACVD硬質涂層真空鍍膜機系統的特點：

（1）2個等離子激發源（射頻，直/直流脈沖）（2）安裝在兩邊的2閉合場非平衡磁控管濺射（3）帶有一個前門的六角形真空室，保證一個潔凈的環境（4）干式真空系統設計安裝在一個單獨的空間，處理高吞吐量的碳氫化合物和其他工藝氣體（5）基材和導電與非導電涂層及組合原位清洗的離子激發系統（6）可選擇的等離子體激發模式和頻率使等離子的密度和能量適應基材增壓特性，以小壓強進行電離作用（8）單獨的PACVD工藝中不強制轉動的時候，一種行星式轉動也能夠使濺射涂層統一沉積（9）特別是在PACVD過程特殊設計的進氣系統能夠優化涂層的均勻性和清潔度（10）泵的選擇編排和上下的蒸汽壓力調節，保證了涂層系統的高可靠性（11）iFIX基礎的控制系統，易于批次、配方和報警處理（12）所有數據的采集，保證良好的過程控制。工藝過程中定制曲線圖做到良好檢查方案。在批次運行過程中，操作者也可更改或新建工藝（13）用戶可自行設置進入控制系統的權限，以保證系統的質量和安全性