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發布時間：2020-12-28 13:30
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不銹鋼真空鍍膜加工武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務的廠家，主要鍍膜產品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據客戶的產品進行設計和定制。
恒緣鈦金與您分享金屬表面鍍膜有哪些特點？
蒸發或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精que的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。每種薄膜都可以通過微調閥精que地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質量分數，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質量分數降低到蕞小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現的。當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準竟中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。由于鍍膜設備的不斷改進，鍍膜過程可以實現連續化，從而大大地提高產品的產量，而且在生產過程中對環境無污染。干式鍍膜既不產生廢液，也無環境污染。
恒緣鈦金廠將竭誠為您提供周到的表面處理加工服務。歡迎您致電圖片上方的聯系方式。
恒緣鈦金與您分享鍍膜材料
鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經鍍膜的透鏡每個表面的反射率為5%，單層鍍膜后降至2%，而多層鍍膜可降至0．2%，這樣，可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射金屬表面，金屬表面鍍膜的效果從而提高影像的反差和明銳度。一種金屬表面真空和蒸發鍍膜裝置，包括主殼體、真空室和雙層隔熱板，所述主殼體的底部安裝有底座，所述主殼體的表面安裝有防護膠套，所述主殼體的頂部安裝有電源按鈕。鍍膜指在基材上形成從數納米到數微米的材料層，材料可以是金屬材料、半導體材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。鍍膜的工藝可以簡略的分為化學工藝及物理
恒緣鈦金與您分享鍍膜中常見的幾種離子源
離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。真空濺射鍍膜的優點在于它工藝重復性好，薄膜純度高，膜厚均勻，附著力好。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。
陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。電鍍前處理的脫脂分為超聲波脫脂、熱脫脂、電解脫脂這三種，電解脫脂還分為陰極電解脫脂和陽極電解脫脂兩種。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應用于髙級光學鍍膜并不太多。
考夫曼離子源是應用較早的離子源。屬于柵格式離子源。一種無毒無污染的專業金屬表面鍍膜化學新工，工藝可代替電鍍鉻和電鍍鎳,具有優良的防腐性和耐磨性,成本僅為電鍍鉻的1/2。首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。缺點是陰極（往往是鎢絲）在反應氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對需要大離子流量的用戶可能不適和。
霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。
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PVD真空電鍍和水電鍍的區別
1、PVD真空電鍍現在有不連續鍍膜可以不導電。而水電鍍電鍍產品后導電性顯著增強。
2、PVD真空電鍍加工的顏色要比水電鍍的豐富，色澤光亮度要比水電鍍的亮。
3、PVD真空電鍍保色時間長，不會腐蝕氧化。水電鍍的輪轂很容易發黃腐蝕的。
4、PVD真空電鍍為綠色環保工藝，技術發展快。而水電鍍為傳統工藝，高污染，行業受國家政策影響限制個光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產生，使得電鍍的效果得以展現.
PVD真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的產品.同時因其工藝流程復雜、環境、設備要求高，單價比水電鍍昂貴.現對其工藝流程作簡要介紹：產品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.
PVD真空電鍍是行業里面統稱，它屬于電鍍技術的一種，屬于表面真空鍍膜處理技術，它環保，解決了表面處理上的很多難題。PVD真空電鍍處理劑是一種特殊的附著力處理劑，提升鍍層與底材之間的附著力，解決掉鍍層，過不了測試等問題。
