單靶磁控濺射儀廠家詢問報價【沈陽鵬程】

光纖磁控濺射鍍膜機組成

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設備用途：

在光纖表面鍍制納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。配有陽極層離子源進行清洗和輔助沉積，同時設備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質量和牢固度。專用樣品臺可鍍制多種型號光纖產品

系統主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

雙靶磁控濺射鍍膜機的特點有哪些？

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品，以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。

產品特點

1：此款鍍膜儀配置有兩個靶槍：一個靶槍配套的是射頻電源，用于非導電靶材的濺射鍍膜；一個靶槍配套的是直流電源，用于導電材料的濺射鍍膜

2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應用非常廣泛。

3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。