金屬真空鍍膜設(shè)備給您好的建議

PVD技術(shù)出現(xiàn)于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國(guó)制造業(yè)的高度重視，人們?cè)陂_發(fā)、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對(duì)刀具材料的抗彎強(qiáng)度無(wú)影響；薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適于對(duì)硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層；PVD工藝對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。

原子沉積過程可以在真空，氣態(tài)，等離子體或電解環(huán)境中進(jìn)行。而且，沉積室中的真空環(huán)境會(huì)將沉積過程中的氣態(tài)污染降低到非常低的水平。

過去的幾十年展示了PVD技術(shù)的發(fā)展，旨在改善涂層特性和沉積速率，而無(wú)需保留初始表面清潔以去除可能的污染物。該技術(shù)已經(jīng)得到了相關(guān)的改進(jìn)，主要是在碳化物和納米復(fù)合過渡金屬氮化物襯底上。盡管這種方法的沉積速率有效性的提高一直是與這種技術(shù)有關(guān)的工業(yè)關(guān)注的重點(diǎn)，但研究仍集中在改善涂層的特性上。

對(duì)于需要更高的表面形態(tài)質(zhì)量的應(yīng)用（對(duì)于粗糙度，晶粒尺寸，化學(xué)計(jì)量和其他要求比沉積速率更重要的應(yīng)用），濺射工藝似乎是一種替代方法。由于在冷卻過程中隨著溫度或基材（聚合物）熔化溫度的降低而產(chǎn)生的應(yīng)力，沉積過程對(duì)某些應(yīng)用提出了溫度限制。這導(dǎo)致濺射工藝在PVD沉積技術(shù)中變得更加重要，同時(shí)又不會(huì)忘記基于濺射工藝的新技術(shù)的出現(xiàn)，以滿足不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求。