真空鍍膜系統生產廠家性價比出眾“本信息長期有效”

油擴散泵在真空鍍膜機中的作用

油擴散泵：機械泵的極限真空只有10-2帕，當達到10-1帕的時候，實際抽速只有理論的1/10，如果要獲得高真空的話，必須采用油擴散泵。

油擴散泵的應用壓強范圍是10-1帕-10-7帕，它是利用氣體的擴散現象來排氣的，它具有結構簡單，操作方便，抽速大等特點。油擴散泵主要由泵殼、噴嘴、導流管和加熱器組成，里面主要添加擴散泵油（日本的型號是D-704#），根據噴嘴的多少可以分為單級泵和多級泵。艾明坷科技有限公司主營手套箱，如需了解更多詳情,歡迎與我們交流。

擴散泵底部內儲存有擴散泵油，上部為進氣口，右側旁下部為出氣口，在工作時出氣口由機械泵提供前置壓強，機械泵充當前置泵。

當擴散泵的油被電爐加熱時，產生的油蒸汽提供前置壓強，機械泵充當前置泵。當擴散泵油被電爐加熱時，產生的油蒸汽沿著導流管經傘形噴嘴向下噴出。因噴嘴外面有機械泵提供的1-10-1帕的真空，故油蒸汽可噴出一段距離，構成一個向出氣口方向運動的射流。射流后碰上由冷卻水冷卻的泵壁，凝結為液體，流回蒸發器，即靠油的蒸發——噴射——凝結，重復循環來實現抽氣的。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產生“鎘脆”，甚至引起“空難”。

由進氣口進入泵內的氣體分子，一旦落入蒸汽流中，便獲得向下運動的動量，向下飛去，由于射流具有高的流速（約200米/秒），高的蒸汽密度，且擴散泵油具有高的分子量（300-500）故能有效的帶走氣體分子，因此在射流的界面內，氣體分子不可能長期滯留，且在射流界面的兩邊，被抽氣體有很大的濃度差，正是因為這個濃度差被抽氣體能不斷的越過界面，擴散進入射流中，被帶往出口處，在出口處再由機械泵抽走。在光學儀器中人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

擴散泵的油蒸汽壓是決定泵的極限真空的重要因素，因此盡量選用飽和蒸汽壓低的泵油，其化學特性要好。

由于油擴散泵是無法杜絕有返油的幾率，那么沒有辦法保證精密產品的100％純凈，特別是半導體行業，所以就有“高真空冷凝泵＋低真空機械泵”所組成的無油真空系統，冷凝泵組成的排氣系統不僅排氣效率極高，而且有效保證真空腔的清潔，保證產品的質量（避免產品被污染、增強膜層與基板之間的附著力），但是其維護成本非常的高，造價昂貴，所以普及率沒有油擴散泵廣泛。真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。

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真空鍍膜技術的應用領域

在平板顯示器中

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且，幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說，沒有薄膜技術，就沒有平板顯示器件。

在太陽能利用方面

當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因此，為了有效地利用太陽熱能，就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。真空鍍膜機的詳細結構高真空鍍膜機，鍍膜機是目前制作真空條件應用最為廣泛的設備。

理想的選擇吸收面，是太陽輻射光譜的波段（可見光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。

在防偽技術中

防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

在飛機防護涂層方面

飛機的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產生“鎘脆”，甚至引起“空難”。

1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術中，由于給工件施加負偏壓，可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織，因此，可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

在光學儀器中

人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

在信息存儲領域中

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優勢：

由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩態狀態容易保持等。

為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術。

在傳感器方面

在傳感器中，多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。此外，其中，大多數利用的是半導體的表面、界面的性質，需要盡量增大其面積，且能工業化、低價格制作，因此，采用薄膜的情況很多。

在集成電路制造中

晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見，氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。

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真空鍍膜機原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司專業從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。對于真空鍍膜機必須要掌握的名詞低溫冷凝泵：它是利用低溫表面來凝聚氣體分子以實現抽氣的一種泵，是目前獲得極限真空最1高，抽速最1大的抽氣泵。