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真空鍍膜機在塑料外表上鍍鋁優勢？

真空鍍膜機在塑料外表上鍍鋁優勢？真空鍍膜機是專業在塑料外表進行蒸發鍍鋁的專用設備，它成膜速率快，膜層結實，色澤鮮亮，膜層不易受污染，電鍍設備可獲得細密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不發生廢液、廢水，可防止對環境的污染，是大規模出產的抱負設備。

真空鍍膜機在市場上的廣泛應用真空鍍膜機在市場上的廣泛應用，設備使用廣泛，主要有汽車反光網、工藝品、首飾、鞋帽、掛鐘、燈具、裝修等行業。主要由真空室、排氣體系、蒸發體系和電氣設備四有些構成。

真空中制備膜層可防止膜料和鍍件外表的污染，消除空間磕碰，進步鍍層的細密性和可制備單一化合物的特別功用的鍍層。為了進步鍍層厚度的均勻性，鍍在真空室中夾有行星組織或旋轉運動的設備，如一個行星的運動形式，運動形式的膜均勻性好，鍍層的臺階覆蓋性能好，承載才能大，可充分利用有用空間的真空鍍膜室，是一個運動的常用形式。排氣體系通常由機械泵，分散泵，管道和閥門構成。

為了進步泵的流量，能夠增加增壓器之間的機械泵和分散泵。

因而，不僅在較短的時間內低壓力以保證疾速的工作循環的排氣體系，還需要保證氣體的蒸發源和蒸鍍工件外表發生疾速的去掉。蒸發體系包含電氣設備和加熱蒸發源蒸發源。

真空蒸鍍鋁涂層在純金屬涂層的制備上大多采用什么方法

真空蒸鍍鋁涂層在純金屬涂層的制備上，大都采用真空蒸發鍍法。而純金屬中鋁涂層，由于它用途廣泛，如制鏡工業中的以鋁代銀，集成電路中的鋁刻蝕導線；聚酸薄膜表面鍍鋁制作電容器；

滌綸聚酯薄膜鍍鋁的制作、防止紫外線照射的食品軟包裝；滌綸聚酯薄膜鍍鈷后再鍍鋁制作磁帶等。因此，今年來真空鍍鋁工業在國內外不但發展迅速，而且，正向著濺射法、離子鍍法等鍍膜技術領域發展。

真空蒸鍍鋁薄膜可選用間歇式蒸發鍍膜，也可選用半連續式真空鍍膜機。其蒸發源可為電阻源，電子束源，也可以選用感應加熱式蒸發源，可依據蒸鍍膜材的具體要求而定。

真空蒸發鍍鋁涂層的工藝參數，主要包括蒸鍍室的壓力、沉積速率、基片溫度、蒸距等。如果從膜片基體上分布的均勻性上考慮，還應注意蒸發源對基片的相對位置及工件架的運動狀態等方面因素。例如，選用電子束蒸發源進行鋁涂層制備時，其典型的主要工藝參數可選用：鍍膜室工作壓力為2.6X10-4Pa、蒸發速率為2~2.5nm/s、基片溫度20℃、蒸距450nm、電子束槍電壓為9kV，電流為0.2A。電子束蒸鍍法所得到的膜厚分散度較大，即均勻性較差。這也是近年來真空鍍鋁膜有向著濺射法和離子鍍法發展制備鋁膜的趨勢原因之一。

光學真空鍍膜機如何維護

以前塑料真空鍍膜機，裝飾真空鍍膜機都比較的普遍，很少有了解到了解到光學鍍膜機，總感覺光學鍍膜機高科技技術含量很好，離我們很遙遠，然后現如今光學真空鍍膜機已經被很多行業所應用，也被很多的廠家認可。下面至成真空小編為大家講解一下光學真空鍍膜機維修方面的知識。

光學鍍膜機主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。它的工作原理是在高真空狀態下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發源至被蒸發基片距離大，蒸發出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。光學鍍膜機維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。