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發布時間:2021-09-16 22:27  
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PLD450型脈沖激光鍍膜介紹
沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商,我們為您帶來以下信息。
主要用途:
用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
系統組成:
主要由濺射真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。
脈沖激光沉積的應用領域
沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積,以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。
脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物,氮化物,硫化物薄膜,金屬薄膜,磁性材料等。
應用領域:
單晶薄膜外延(SrTiO3,LaAlO3)
壓電薄膜(PZT,AlN,BiFeO3,BaTiO3)
鐵電薄膜(BaTiO3,KH2PO4)
熱電薄膜(SrTiO3)
金屬和化合物薄膜電極(Ti,Ag,Au,Pt,Ni,Co,SrRuO3,LaNiO3,YZrO2,GdCeO2,LaSrCoFeO3)
半導體薄膜(Zn(Mg)O,AlN,SrTiO3)
高K介質薄膜(HfO2,CeO2,Al2O3,BaTiO3,SrTiO3,PbZrTiO3,LaAlO3,Ta2O5)
超導薄膜(YBa2CuO7-x,BiSrCaCuO)
光波導,光學薄膜(PZT,AlN,BaTiO3,Al2O3,ZrO2,TiO2)
超疏水薄膜(PTFE)
紅外探測薄膜(V2O5,PZT)
常規沉積條件下的組合合成
脈沖激光沉積系統特點及優勢:
可根據客戶需求定制產品,靈活性高,并提供專業的技術支持;靶臺可以安裝6個靶位,靶材更換靈活;樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用;進樣室可以存儲多個靶和樣品;交易過程無需繁瑣的進、出關手續, 交貨期短,性價比高;
沈陽鵬程真空技術有限責任公司擁有先進的技術,我們都以質量為本,信譽高,我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業務。如果您對脈沖激光沉積感興趣,歡迎點擊左右兩側的在線客服,或撥打咨詢電話。
脈沖激光沉積系統的配置介紹
沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積,我們為您分析該產品的以下信息。
1.靶: 數量6個,大小1-2英寸,被激光照射時可自動旋轉,靶的選擇可通過步進電機控制;
2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時基板可旋轉,工作環境的壓力可達300mtorr;
3.基板加熱電源,高到1200度;
4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-8 pa;
5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;
7.閥門: 采用超高真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計;
9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;
10.薄膜生長監控系統: 采用掃描型差分RHEED;
11.監控系統:基板溫度的監控和設定,基板和靶的旋轉,靶的更換等;
12.各種電流導入及測溫端子;
13.其它各種構造:各種超高真空位移臺,磁力傳輸桿,超高真空法蘭,超高真空密封墊圈,超高真空用波紋管等;