開封金屬鍍鈦廠家公司按需定制,金常來廠家實力雄厚

PVD鍍膜與傳統化學電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。PVD鍍膜技術目前主要應用的行業：PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。

②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數用途：高速gang刀具，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，TiAlN/AlTiN涂層在加工過程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質合金工具（加工材料硬度低于HRC45時建議用TiAlN,加工材料硬度高于HRC45時建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術主要包括真空陰極弧物理蒸發、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強濺射四種。①陰極弧物理蒸發（ARC）：真空陰極弧物理蒸發過程包括將高電流，低電壓的電弧激發于靶材之上，并產生持續的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發出來形成高度激發的離子束，在含有惰性氣體或反應氣體的真空環境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結合力。