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              真空鍍膜系統廠家的行業須知【艾明坷】

              發布時間:2021-01-08 20:59  

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              CT系列鍍膜機

              CT(Custamued workstation)系列鍍膜機系我司非標定制產品,根據您的要求單獨設計,滿足您的特殊需要。

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              3、磁控、熱蒸發多種鍍膜方式可選

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              薄膜均勻性概念

              1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。艾明坷科技有限公司主營手套箱,如需了解更多詳情,歡迎與我們交流。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。

              2.化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。說到這里,很多人都遇到過真空方面的漏氣問題,真空部分出現了問題很麻煩,再加上我們公司沒有檢漏儀,這就要分階段來找。 具體因素也在下面給出。

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              真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法


              制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態需要抽氣系統來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。此外,雖然QCM在低溫下非常穩定,但溫度高,它將成為對溫度很敏感。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。

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