激光脈沖沉積設備公司服務為先 沈陽鵬程公司

脈沖激光沉積機制

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積，我們為您分析該產品的以下信息。

PLD的系統設備簡單，相反，它的原理卻是非常復雜的物理現象。【設備主要組成】設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統、激光束掃描系統、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時，激光與物質之間的所有物理相互作用，亦包括等離子羽狀物的形成，其后已熔化的物質通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移，及膜的生成過程。所以，PLD一般可以分為以下四個階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質的動態

3. 熔化物質在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）與生成。

脈沖激光沉積系統特點及優勢

可根據客戶需求定制產品，靈活性高，并提供專業的技術支持；靶臺可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關手續, 交貨期短，性價比高；

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脈沖激光沉積簡介

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商，我們為您帶來以下信息。

【設備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質結，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設備優點】

設備全程采用一鍵式操作抽氣，關機，程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。

【設備主要組成】

設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統、激光束掃描系統、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成

脈沖激光沉積系統的配置介紹

1.靶: 數量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉，靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉，工作環境的壓力可達300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;

7.閥門: 采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監控系統: 采用掃描型差分RHEED;

11.監控系統:基板溫度的監控和設定，基板和靶的旋轉，靶的更換等;

12.各種電流導入及測溫端子;

13.其它各種構造:各種超高真空位移臺，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等;