臺灣小型氣相沉積設備信息推薦 東莞拉奇納米鍍膜

真空納米鍍膜機設備的主要用途

(1)各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉換效率。

(2)裝飾領域的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。

(3) 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機

(4)化學氣相沉積(MOCVD)生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

磁控濺射除上述已被大量應用的領域，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。

在真空條件下加熱工件，主要依賴輻射。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢；其次，因為金屬材料中的某些合金元素在低壓條件下加熱時有蒸發損失現象，會造成表面合金元素的貧乏，以致影響其淬火后的表面層性能。對流加熱技術是指先將真空鍍膜設備真空爐爐膛抽到一定真空度，然后通以0．1—0．2MPa的惰性（Ar、He）、中性（N2）或還原性（H2）氣體，并在充分攪動條件下施行加熱，與在單純真空條件下比較，加熱速度至少可提高一倍以上。

用真空鍍膜技術代替傳統的電鍍工藝，不但能節省大量的膜材和降低能耗，而且還會消除濕法鍍膜中所產生的環境污染。因此國外在鋼鐵零件涂鍍防腐層和保護膜方面，已采用真空鍍膜工藝來代替電鍍工藝。在冶金工業中，為鋼鐵和帶鋼加鍍鋁防護層已很普遍；在機械制造業中，真空鍍膜工藝用于改變改變某些加工工藝和節約貴重的原材料，如飛機渦輪發動機的葉片已經不用價格昂貴的耐高溫金屬制造，而是采用價格低廉易加工材料，成形后再用真空鍍膜的方法在葉片表面上加鍍耐高溫，耐腐蝕的防護層。