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發布時間:2020-12-29 13:15  
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鍍層漂洗水是電鍍作業中重金屬污染的主要來源
鍍層漂洗水鍍層漂洗水是電鍍作業中重金屬污染的主要來源。電鍍液的主要成分是金屬鹽和絡合劑,包括各種金屬的硫酸鹽、氯化物、氟硼酸鹽等以及、氯化銨、氨三、焦磷酸鹽、有機等。除此之外,為改善鍍層性質,往往還在鍍液中添加某些有機化合物,如作為整平劑的香豆素、、,作為光亮劑的有糖精、香草醛、芐叉、對磺酰胺、苯磺酸等。因此鍍件漂洗廢水中除含有重金屬離子外,還含有少量的有機物。漂洗廢水的排放量以及重金屬離子的種類與濃度隨鍍件的物理形狀、電鍍液的配方、漂洗方法以及電鍍操作管理水平等諸多因素而變。特別是漂洗工藝對廢水中重金屬的濃度影響很大,直接影響到資源的回收和廢水的處理效果。

出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區光亮性差或漏鍍、高電流
但其不足之處是:出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區光亮性差或漏鍍、高電流密度區易發霧。只適用于要求不高的簡單工件,復雜件則難達要求。出光速度慢帶來生產效率低、鎳耗較大等不利情況。第四代鍍鎳初級光亮劑一般由3~5種中間體復配而成,其中有些組分完全擺脫了炔屬體系。即使采用炔屬類也不大用,而是的加成物。直接用代替,光亮整平性好得多,但鍍層脆性很大,故不宜直接加入。第四代鍍鎳初級光亮劑為柔軟劑,實際上也是由幾種中間體復配而成,產品差異很大。

真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空離子鍍
真空鍍,就是在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在金屬表面沉積各種金屬和非金屬薄膜的表面處理工藝。通過真空鍍的方式可以得到非常薄的表面鍍層,同時具有速度快、附著力好、污染物少等優點。按照工藝不同,真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍。電鍍是一種電化學和氧化還原的過程。以鍍鎳為例:將金屬制件浸在金屬鹽(NiSO4)的溶液中作為陰極,金屬鎳板作為陽極,接通直流電源后再制件上就會沉積出金屬鍍鎳層。
