有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備價(jià)格誠(chéng)信企業(yè)「多圖」

鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

      人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

   

1. 真空

在空間內(nèi)，低于環(huán)境大氣壓力的氣體狀態(tài)。

2. 真空度

表示真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度，通常用壓力值來(lái)表示。

3. 真空區(qū)域劃分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

極高真空 <10-9Pa

4. 全壓力

混合氣體中所有組分壓力的綜合。

真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類。

真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備價(jià)格

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的真空蒸發(fā)鍍、濺射鍍膜和離子鍍等鍍膜技術(shù)。如今鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常廣泛，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。

如今隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng)，各種類型的真空鍍膜機(jī)也開(kāi)始隨之出現(xiàn)。所謂真空鍍膜設(shè)備工藝就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

真空鍍膜設(shè)備膜層附著力不良：(1)鍍件除油脫脂不干凈。應(yīng)加強(qiáng)鍍前處理。同時(shí)由于PVD是一種干法鍍技術(shù),可以避免濕法鍍時(shí)酸性或堿性電解質(zhì)溶液殘留在磁體孔隙內(nèi)和電鍍過(guò)程中磁體吸氫而導(dǎo)致鍍層脆裂的缺點(diǎn)。(2)真空室內(nèi)不清潔。應(yīng)清洗真空室。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過(guò)程中，嚴(yán)禁用手或不干凈的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結(jié)合力的重要措施之一。(3)夾具不清潔。應(yīng)清洗夾具。(4)底涂料選用不當(dāng)。應(yīng)更換涂料。(5)濺射工藝條件控制不當(dāng)。應(yīng)改進(jìn)濺射工藝條件。