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平面研磨機的兩種設備類型

平面研磨機的兩種設備類型 平面研磨機是用于工件平面研磨拋光的設備，在打造鏡面效果和光滑表面有著突出的作用。平面研磨拋光有單面和雙面兩種方式的研磨拋光方式，相對應的就有單面研磨拋光機和雙面研磨拋光機。 像我們日常接觸的手機玻璃、藍寶石、陶瓷、金屬等表面光滑的產品都是通過單面研磨拋光機加工而成。尤其對于超薄工件、體積大的工件和易損工件，單面研磨拋光機的研磨加工優勢愈加明顯。雙面研磨拋光機主要是通過上下研磨盤相反方向轉動進行工作，在光學玻璃行業的硅片、藍寶石襯底、外延片中的應用具有重要意義，雙面研磨拋光機在雙面研磨拋光后可以工件達到≤0.002mm的平面誤差。 平面研磨機用于研磨拋光是非常實用的設備，代替了傳統低效率的研磨加工方式，提高了研磨加工行業的整體工作效率，給相關行業帶來更多的經濟效益。

平面研磨機需要的設備有哪些

平面研磨機需要的設備有哪些 研磨機主機采用調速電機驅動，配置大功率減速系統，軟啟動、軟停止，運轉平穩。通過上、下研磨盤、太陽輪、游星輪在加工時形成四個方向、速度相互協調的研磨運動，達到上下表面同時研磨的運作。下研磨盤可升降，方便工件裝卸。氣動太陽輪變向裝置，控制工件兩面研磨精度和速度。隨機配有修正輪，用于修正上下研磨盤的平行誤差。 1、磨盤：如遇到較軟的工件材料時，比如說研磨光學玻璃這種材質的工件，我們可以采用半軟質的磨盤（比如錫盤）或者軟質的磨盤（比如瀝青盤）等，使用這類研磨盤的缺點是磨盤比較容易保持平面度，所以會對加工工件的平面度產生一定的影響，而優點是研磨出的工件表面變質層較小，且表面粗糙度也小。要想獲取較高的研磨表面質量，需選用正確且適合的磨盤。 2、磨粒：它主要是按照硬度分為兩類（硬磨粒和軟磨粒），選用研磨時用到的磨粒具備功能體現為形狀、尺寸均勻一致；能適當的破碎，使切刃鋒利；磨粒的熔點要比工件熔點高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨拋光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加劑三部分組成，作用是供給磨粒、排屑、冷卻和潤滑。對加工液的要求如下： 1）能夠有效散熱，以免研具和工件表面熱變形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流動性； 4）化學物理性能穩定的，不會因放置或者溫升而分解變質； 5）能夠較好地分散磨粒的。 在平面研磨機研磨拋光時，會伴有發熱現象，除了工件和研具因溫度上升而發生形變難以進行高精度研磨外，在局部的磨粒作用點上也會產生相當高的溫度，使加工變質層深度增加。而適當地供給加工液，可以有效保證研具有良好的耐磨性工件的形狀精度及較小的加工變質層。添加劑的作用是放置或延緩磨料沉淀，并對工件發揮化學作用以提高研磨拋光加工效率和質量。

平面研磨機研磨運動要滿足哪些要求

平面研磨機研磨運動要滿足哪些要求 平面研磨機在加工中，選擇合理地運動方式以及研磨軌跡是極為重要的一步，研磨運動中的是在于實現磨料的切削運動，因此運動狀況的好壞，將會直接的影響研磨加工時的精度以及生產的效率，所以平面研磨機在研磨加工運動中，研磨運動應滿足以下幾點： 1.在加工工件時，整個研磨運動自始至終都應該力求平穩。特別是研磨面積小而細長的工件，更需要注意使運動力向的改變要緩慢，避免拐小彎，運動方向要盡顯偏于工件的長邊方向并放慢運動速度。否則會因運動的不平穩造成被研表面的不平，或掉邊掉角等質量瑕疵。 2.研磨運動應該保證工件能夠均勻地接觸帶研磨拋光盤的全部表面。這樣可使其能夠表面均勻受載、均勻磨損，因而還才可以長久地保持研具本身的表面精度。 3.在研磨運動中，研具與工件之間應處于還處于浮動的狀態，而不應是強制的限位狀態。這樣可以使工件與研磨拋光盤的表面能夠更好地接觸，把研具表面的幾何形狀能夠準確有效地傳遞給工件，從而不會受到研磨拋光機本身精度的過多影響。 4.研磨運動應保證工件受到均勻研威即被研工件表面上的每一點所運動的路程應相等。這就需要研磨運動能夠作平面平行運動，而這種運動是能夠可使工件表面上任意兩點的連成線，在整個研磨運動中，都能夠始終保持平行，這對于保證工件的幾何形狀的精度以及尺寸均勻程度來說是至為重要的。 5.所選用的研磨運動應使運動軌跡不斷有規律地改變方向，盡量避免過早地出現重復。這樣可以就可以使工件表面上的無數的切削條痕能夠有規律地相互交錯抵消，慢慢的越研越平，進而達到提高工件所要求的人表面精度的終目的。