云浮中頻離子鍍膜機(jī)廠家值得信賴「至成真空科技」

真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。

3、多弧離子鍍膜無污染，無毒無味，無三廢排放，屬國家環(huán)保產(chǎn)品技術(shù)。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復(fù)雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強(qiáng)、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會生銹，催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時(shí)間有一個采購光學(xué)鍍膜機(jī)的客戶簽訂協(xié)議的時(shí)候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓(xùn)了大量的設(shè)備相關(guān)的操作知識和注意事項(xiàng)，客戶也學(xué)到了不少相關(guān)的知識。今天至成真空小編也再次詳細(xì)和大家講解一下真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上應(yīng)該注意的事項(xiàng)，加強(qiáng)大家的設(shè)備方面的知識和技能。

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學(xué)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá)95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機(jī)增透膜增加透射光強(qiáng)度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時(shí)，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時(shí)（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達(dá)到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實(shí)現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實(shí)現(xiàn)。

人們對增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時(shí)也掌握了不少先進(jìn)的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學(xué)、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進(jìn)步作出了重大貢獻(xiàn)。

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流的作用

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使材料離子化（帶正電顆粒），從而高速擊向基片(負(fù)電)并沉積，形成致密膜堅(jiān)硬膜。主要用于耐磨耐蝕膜。中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當(dāng)陽極,而中頻濺射是成對的,筒體是否參加必須視整體設(shè)計(jì)而定,與整個系統(tǒng)濺射過程中,陽極陰極的安排有關(guān),參與的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的濺射產(chǎn)額,得到不相同的離子密度中頻濺射主要技術(shù)在于電源的設(shè)計(jì)與應(yīng)用,目前較成熟的是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優(yōu)缺點(diǎn),首先應(yīng)考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式適合哪種膜層,可以用電源特性來得到想要的膜層效果.中頻濺射也是磁控濺射的一種,一般真空鍍膜機(jī)磁控濺射靶的設(shè)計(jì),磁場的設(shè)計(jì)是各家技術(shù)的重點(diǎn),國際幾個有名的濺射靶制造商,對靶磁場的設(shè)計(jì)相當(dāng)專業(yè),改變磁場設(shè)計(jì)能得到不相同的等離子體蒸發(fā)量.電子的路徑,等離子體的分布.關(guān)于陰極弧（也就是離子鍍），磁控濺射，以及坩堝蒸發(fā)都屬于PVD（物理氣相沉積），坩堝蒸發(fā)主要是相變，蒸發(fā)靶材只有幾個電子伏特的能量。

多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)

很多朋友問我關(guān)于多弧離子真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)方面的問題，當(dāng)時(shí)給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光放電放出的陰極物質(zhì)的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發(fā)的靶材接陰極，真空室為陽極，當(dāng)觸發(fā)電極與陰極靶突然瞬間接觸時(shí)，就會引起電弧，在陰極表面產(chǎn)生強(qiáng)烈發(fā)光的陰極弧光斑點(diǎn)，斑點(diǎn)直徑在100?m以下，斑點(diǎn)內(nèi)的電流密度可達(dá)103~107A/cm2于是在這一區(qū)域內(nèi)的材料就瞬時(shí)蒸發(fā)并電離。陰極弧光斑點(diǎn)在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規(guī)則運(yùn)動，外加磁場用來控制輝點(diǎn)的運(yùn)動軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認(rèn)為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發(fā)射和正離子電流這兩種機(jī)制同時(shí)存在且相互制約而實(shí)現(xiàn)的。

在放電過程中，陰極材料大量蒸發(fā)，這些蒸汽分子產(chǎn)生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內(nèi)產(chǎn)生極強(qiáng)的電場，在這樣強(qiáng)的電場作用下，電子以產(chǎn)生以場電子發(fā)射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產(chǎn)生強(qiáng)電場，使陰極表面上功函數(shù)小的點(diǎn)(晶界或裂痕)開始發(fā)射電子。個別發(fā)射電子密度高的點(diǎn)，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產(chǎn)生熱電子，進(jìn)一步增加發(fā)射電子。這個正反饋?zhàn)饔檬闺娏骶植考小Ｓ捎陔娏骶植考挟a(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發(fā)性地等離子化，發(fā)射電子和離子，并留下放電痕。同時(shí)也放出熔融的陰極材料粒子。發(fā)射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產(chǎn)生強(qiáng)電場，又使新的功函數(shù)小的點(diǎn)開始發(fā)射電子。