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              氣相化學沉積設備公司咨詢客服「在線咨詢」

              發布時間:2020-11-07 07:39  

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              化學氣相沉積法在金屬材料方面的使用

              以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供,今天我們來分享化學氣相沉積的相關內容,希望對同行業的朋友有所幫助!

              化學氣相沉積法生產幾種金屬薄膜

              金屬薄膜因其有著較好的高導電率、強催化活性以及極其穩定引起了研究者的興趣。和生成金屬薄膜的其他方式相比,化學氣相沉積法有更多技術優勢,所以大多數制備金屬薄膜都會采用這種方式。化學氣相沉積的原理沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售化學氣相沉積,我們為您分析該產品的以下信息。沉積金屬薄膜用的沉積員物質種類比較廣泛,不過大多是金屬元素的鹵化物和有機化合物,比如COCl2、氯化碳酰鉑、氯化碳酰銥、DCPD化合物等等。

              Goto 團隊在金屬薄膜用作電極材料上做了大量的工作。他們所使用的襯底材料有藍寶石、石英玻璃以及氧化釔穩定化的二氧化鋯(YSZ)等等。在成沉積時往裝置中通入氧氣是為了消除掉原料因熱分解產生的碳,并制備出更有金屬光澤的金屬薄膜,如若不然則得到的就是銥碳簇膜,也就是納米等級被晶碳層所包裹的銥顆粒。沉積在YSZ 上面的銥碳簇膜有著較好的電性能和催化活性。4)涂層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。在比較低的溫度下,銥碳簇膜的界面電導率能達到純銥或者純鉑的百倍以上。金屬和炭組成的簇膜是一種輸送多孔催化活性強的簇膜,在電極材料上的使用在未來將很有潛力。



              等離子體化學氣相沉積

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商,我們為您帶來以下信息。

              等離子體化學氣相沉積簡稱PCVD,是一種用等離子體激發反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。等離子體化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成等離子體,利用低溫等離子體作為能量源,通入適量的反應氣體,利用等離子體放電,使反應氣體激發并實現化學氣相沉積的技術。在待刻蝕硅片的兩邊,分別放置一片與硅片同樣大小的玻璃夾板,疊放整齊,用夾具夾緊,確保待刻蝕的硅片中間沒有大的縫隙。



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