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              發(fā)布時(shí)間:2021-01-21 05:09  

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              對(duì)形狀復(fù)雜零件、線材、薄板和細(xì)小零件,用電化學(xué)拋光比機(jī)械拋光容易得多。

              電化學(xué)拋光比機(jī)械拋光生產(chǎn)效率較高,但大型工件不能放人拋光槽中,并需要特別大的電流,難以進(jìn)行電化學(xué)拋光。

              電化學(xué)拋光工件表面電流密度必須均勻,必要時(shí)需用象形陰極,否則表面亮度不均勻。

              電化學(xué)拋光時(shí)電流比較大,夾具與工件需有足夠大的接觸面積并接觸良好,否則局部過(guò)熱會(huì)燒毀工件。

              某些用于奧氏體不銹鋼拋光工藝不能用來(lái)拋光馬氏體不銹鋼,容易產(chǎn)生腐蝕


              基片裝在接地的電極上,絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過(guò)匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。例如純金鍍層的硬度只有50~60HV,成色為97%的金鈷鍍層的硬度可以達(dá)到其2倍以上,利用該鍍層裝飾將大大提高首飾表面的耐磨性能。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負(fù)電,在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),靶處于負(fù)的偏置電位,從而使正離子對(duì)靶的濺射持續(xù)進(jìn)行。采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個(gè)數(shù)量級(jí)。


              作為本實(shí)用新型手機(jī)指環(huán)扣的技術(shù)方案的一種改進(jìn),所述旋轉(zhuǎn)蓋與所述指環(huán)在所述旋轉(zhuǎn)蓋的邊緣鉸接。

              作為本實(shí)用新型手機(jī)指環(huán)扣的技術(shù)方案的一種改進(jìn),所述指環(huán)扣的底部上設(shè)置有底蓋,所述底蓋固定在手機(jī)殼上且所述底蓋貼合在所述底盤(pán)的下表面。

              作為本實(shí)用新型手機(jī)指環(huán)扣的技術(shù)方案的一種改進(jìn),所述指環(huán)扣上設(shè)置有至少一個(gè)裝飾件。

              作為本實(shí)用新型手機(jī)指環(huán)扣的技術(shù)方案的一種改進(jìn),所述裝飾件為鑲有鉆石或珠片的裝飾件。





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