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發(fā)布時(shí)間:2020-12-17 09:16  
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平面拋光研磨機(jī)的性能受到哪些挑戰(zhàn)
平面拋光研磨機(jī)的性能受到哪些挑戰(zhàn) 平面拋光研磨機(jī)適用于各種材料研磨拋光,在光學(xué)玻璃、石英晶片、硅片、LED藍(lán)寶石襯底等要求超薄工件的領(lǐng)域中作用突出。互聯(lián)網(wǎng)的生活將人們的衣食住行緊緊地聯(lián)系在一起,進(jìn)而對(duì)手機(jī)的需求越來(lái)越大,而平面拋光研磨機(jī)行業(yè)也正在不斷發(fā)展。 然而,隨著對(duì)研磨產(chǎn)品的性能要求不斷提高,平面拋光研磨機(jī)性能也在不斷受到挑戰(zhàn)。具體來(lái)說(shuō),石英晶片、硅片等要求厚度越來(lái)越薄,為了提高振蕩頻率。而藍(lán)寶石襯底片為了利于散熱也在要求厚度變薄,手機(jī)零件方面對(duì)工件的精度、光潔度要求也越來(lái)越高。 總而言之,平面拋光研磨機(jī)要應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn),廠家一方面要改善設(shè)備的各方面性能,另一方面要提高自身的研磨加工技術(shù)。

合成鐵盤的使用特點(diǎn)在平面研磨加工中
合成鐵盤的使用特點(diǎn) 在平面研磨加工中,研磨拋光機(jī)是非常關(guān)鍵的設(shè)備,目前的研磨拋光設(shè)備有單面研磨拋光機(jī)和雙面研磨拋光機(jī)。不過(guò)高精度的工件除了需要研磨設(shè)備還需要研磨耗材。接下來(lái)我們來(lái)談?wù)劤S糜诰ゴ帜サ暮铣设F盤。 合成鐵盤的主要是由鐵粉與樹脂合成,其切削力強(qiáng),無(wú)氣孔,耐磨性好。在研磨加工行業(yè)用于開粗,為企業(yè)節(jié)約成本,提高工作效率。合成鐵盤是不銹鋼、石英玻璃、銅件、氧化鋁、陶瓷產(chǎn)品粗磨中很重要的研磨耗材。

淺析硅片拋光機(jī)的兩種拋光方式
淺析硅片拋光機(jī)的兩種拋光方式 硅片拋光機(jī)如何解決這個(gè)矛盾的的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能小;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到。 硅片拋光機(jī)不是碾除整體的糠層,是通過(guò)碾除細(xì)微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉細(xì)粒,拋光機(jī)拋光和碾白從工作方面比較存在著很大的差別,拋光機(jī)拋光壓力很低,拋光機(jī)拋光米粒的時(shí)候流體密度很小,拋光時(shí)米粒離開鐵輥的速度很快,而且拋光機(jī)單位產(chǎn)量拋光運(yùn)動(dòng)面積很大。

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