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發布時間:2021-04-16 05:19  
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簡述
真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。
真空鍍膜應用
真空蒸鍍金屬是繼電鍍等表面處理法之后,根據對包裝和裝飾材料膜類的表面處理的需要而發展起來的一種頗具生命力的、可適用于多種被蒸鍍基材的表面處理工藝。1先采用的方法是將金屬加熱汽化后,再冷凝在基材上。工藝過程全部在抽成一定真空(例如其剩余壓力為標準大氣壓的1/1000000)的密閉容器中進行。另外,要求其被蒸鍍的基材表面必須極平整潔凈,使附著面積和附著力完全符合要求,以保證所鍍金屬制品的表面質量。
真空鍍膜優點
4.此種設備能使金屬蒸鍍層表面質量,所鍍覆的金屬層無和濺潑痕跡等疵病。這是由于電磁功率的增加以及氧化膜和碳質被塔禍壁本身清除干凈,使熔融鋁的表面清潔無瑕所致。