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              發布時間:2021-10-04 16:00  

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              從鍍膜的原理及特點看,真空蒸鍍工件不帶電,真空條件下金屬加熱蒸發沉積到工件表面,沉積粒子的能量與蒸發時的溫度對應。濺射的工件為陽極,靶為陰極,利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上,沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極,蒸發源為陽極,進入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件,并在工件表面沉積成膜,沉積過程中離子對基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發生轟擊作用,粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。真空鍍膜技術優點主要表現在以下幾個方面:1、使塑料表面有導電性。



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              鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:

              輝光清洗:對工件施加負偏壓,產生輝光放電,利用ya離子轟擊工件表面,這種輝光放電清洗作用比較柔和,一般采取由弱到強的轟擊清洗順序,是怕工件太臟時一開始就強轟擊,可能產生強烈的打火而損傷工件。

              離子轟擊:指利用高能高密度的金屬離子流和ya離子流對工件進行離子轟擊清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件溫升過熱退火和轟出表面缺陷。

              本底真空度: 本底真空度越高爐內雜氣量(包括水氣)越少,這保證鍍膜時反應氣體的純度,從而保證膜層顏色的純正和光澤鮮亮。一般本底真空應該進入5-7*10-3

              真空鍍膜的形式:蒸發鍍膜

              工藝原理:

              1)在真空室中,膜料被加熱變成蒸發原子,蒸發原子在真空條件下不與殘余氣

              體分子碰撞而到達工件表面;

              2)蒸發原子與基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;

              3)吸附原子在基材表面發生表面擴散。



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