手機殼真空鍍膜高性價比的選擇「多圖」

真空鍍膜技術被譽為發展前途的重要技術之一，并已在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用，如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環保、軍事等領域。

真空鍍膜的優點

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數:0.23VSNi;

工作溫度:580℃;

優點:增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現象;廣泛應用於鋼料成型加工。

真空電鍍設備為更好的進行測試、測定室內溫度，真空電鍍設備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達標真空電鍍設備，抽氣系統由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。

真空鍍膜和光學鍍膜區別

1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設備上測試不出來了;

2、光學鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。

早的是光控測試，現在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

真空鍍膜的工藝流程

真空鍍膜的工藝流程一般依次為：前處理及化學清洗（表面打磨拋光噴砂，除銹除油去氧化層）→工件在真空中烘烤加熱→離子輝光清洗→金屬離子轟擊→鍍金屬過渡層→鍍膜（通入反應氣體）→后處理（爐內鈍化或出爐后鈍化去應力或防止變色，過UV做防指膜處理等）。

要在調控PVD鍍膜生產的全過程中做到遇障不驚，PVD鍍膜途徑就是在生產實踐中摸爬滾打、堅韌實干善于思考，不斷探索和積累等。真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。