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電鍍件質(zhì)量的好壞直接影響到設(shè)備的整體質(zhì)量，從而影響電鍍質(zhì)量的因素就包括內(nèi)部因素和外部因素。因此，對影響電鍍質(zhì)量的內(nèi)部因素需有個整體的認識，而且對于影響電鍍質(zhì)量的外部因素是不容忽視的，嚴格控制每個環(huán)節(jié)，從而才能確保電鍍的質(zhì)量。零件的前處理，是整個電鍍工序獲得好結(jié)果的先決條件。電鍍生產(chǎn)中，由于各種不同原因，從而導致各種有害雜質(zhì)進入電鍍液。雜質(zhì)的種類比較多，大致有金屬雜質(zhì)、金屬氧化物及不溶性懸浮物、有機雜質(zhì)等。

由于新技術(shù)和鋁制模板的開發(fā)，特別是為了注塑模的設(shè)計，鋁制模具也越來越普遍地用于吹塑模、R.I.M.模、橡膠模、結(jié)構(gòu)發(fā)泡模及R.T.M.模等領(lǐng)域。盡管它可能不適合于所有應用領(lǐng)域，首先需要進行一些表面處理。例如，為了使其能夠達到透鏡級的質(zhì)量水平，建議首先將鋁制模具的表面加工到SPIA-3級光潔度水平，然后在其進一步拋光前，再應用0.0003~0.0005的高磷非電鍍鎳涂層，使其達到鉆石級質(zhì)量的光潔度水平。

真空電鍍設(shè)備具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應力小、耐熱功能好。真空電鍍設(shè)備成膜功能好，真空電鍍設(shè)備涂層的致密度、掩蓋才能、抗溶劑才能與耐光照才能等功能良好。真空電鍍設(shè)備與面涂層有良好的相溶性。真空電鍍設(shè)備因為鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。真空電鍍設(shè)備施涂性能良好。真空電鍍設(shè)備流平性能良好，有恰當?shù)酿ざ取⒐袒瘯r間短。真空電鍍設(shè)備與鍍膜層要有良好的接觸性能;真空電鍍設(shè)備與底涂層要有必定的相溶性;真空電鍍設(shè)備成膜性能與施涂性能;真空電鍍設(shè)備具有恰當?shù)臋C械強度;真空電鍍設(shè)備防潮、抗溶劑、耐真空電鍍設(shè)備腐蝕性能好。抗老化性能強。

真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強，亮度高．而相對其他的鍍膜法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用。真空電鍍設(shè)備是在真空條件下通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種其他材料的設(shè)備。真空電鍍設(shè)備主要分為：中頻磁控真空電鍍設(shè)備、UV真空電鍍設(shè)備、小型真空電鍍設(shè)備等。真空電鍍設(shè)備廣泛應用于機械、冶金、電鍍、鍛壓、鑄造、五金、電子、電器、建筑等領(lǐng)域。